內容簡介
薄膜電晶體液晶顯示器件的製造、測試與技術發展本書從產業人員的角度介紹了薄膜電晶體液晶顯示器（TFT-LCD）的結構、製造工藝過程、性能及其測試方法以及在該領域的新技術發展。本書上篇為TFI-LCD技術基礎，包括TFT-LCD產品的各組成部件的結構、性能、製造方法，TFT-LCD產品製造過程的陣列、成盒、模組三大主要工藝流程的基本過程、原理及設備，TFT-LCD產品的主要性能指標要求及其測試方法。下篇為技術發展介紹，包括陣列部分的低溫多晶矽技術、模組部分的LED背光源技術以及研究領域比較熱門的有機發光顯示和柔性顯示技術。
書籍目錄
目錄
前言
上篇TFT-LCD技術基礎
第1章TFT-LCD的結構及其產品套用
1．1液晶顯示技術的發展歷程
1．2TFT-LCD的原理與結構介紹
1．3主要零組件介紹
1．3．1玻璃
1．3．2彩色濾光片
1．3．3偏振片
1．3．4驅動與控制IC
1．3．5背光源
1．4TFT-LCD產品套用
1．4．1攜帶型移動產品
1．4．2桌面顯示器
1．4．3電視機
1．4．4特殊工業、航空、醫療用途
1．4．5公共顯示領域
參考文獻
第2章TFT-LCD製造工藝過程
2．1TFT-LCD製備工藝流程綜述
2．2TFT陣列工藝及設備
2．2．1有源矩陣顯示器件簡介
2．2．2a-Si：HTFT器件結構及工藝流程簡介
2．2．3TFT陣列工藝及設備
2．3成盒工藝
2．3．1LCCELL的結構及CELL工藝流程綜述
2．3．2主要成盒工藝介紹
2．4模組工藝流程
2．4．1模組的結構及工藝流程綜述
2．4．2偏振片貼覆工程
2．4．3ACF貼覆工藝
2．4．4TCP和PCB連線工藝
2．4．5TFT-LCD模組引線連線技術
參考文獻
第3章TFT-LCD產品性能及其測試方法
3．1產品性能測試基礎
3．2解析度
3．3亮度與亮度均勻性
3．4對比度及對比度均勻性
3．4．1對比度及對比度均勻性測量
3．4．2對比度的影響因素和提高方法
3．5回響時間
3．5．1回響時間介紹
3．5．2灰階回響時間
3．5．3如何提高TFT-LCD的回響速度
3．5．4移動圖像回響速度
3．6可視角度範圍
3．6．1視角的測量方法
3．6．2寬視角技術
3．7色再現性
3．7．1定義
3．7．2色再現性測量方法
3．8功率消耗
3．9串擾
3．10閃爍
3．11視覺檢查項目
3．11．1殘像
3．11．2與顯示圖像信息不直接相關的視覺檢查項目
3．12可靠性測試
3．13測試方法的標準化情況
參考文獻
下篇平板顯示技術發展
引子
第4章低溫多晶矽技術
4．1p-SiTFTTFT技術簡介
4．1．1像素驅動用p-SiTFT器件結構及其特點
4．1．2周邊驅動p-SiTFT結構和特點
4．1．3p-SiTFT-LCD
4．2p-SiTFT材料及其製備方法
4．2．1金屬誘導法製備多晶矽薄膜
4．2．2雷射退火製備多晶矽
4．2．3p-SiTFT的霍爾遷移率測量及測量原理
4．3p-SiTFT及其器件特性
4．3．1多晶矽TFT的電學特性
4．3．2p-SiTFT-LCD器件特性
參考文獻
第5章LCD背光技術發展
5．1LCD背光技術
5．1．1背光源簡介
5．1．2背光源產業狀況
5．1．3背光源各結構和部件介紹
5．1．4背光源光學設計
5．1．5V-Cut導光板的設計
5．2新型LCD背光源LED背光源
5．2．1冷陰極螢光管的缺點
5．2．2LED簡介
5．2．3LED特性
5．2．4LED驅動
5．2．5LED背光設計案例
5．2．6基於LED背光技術發展的新型液晶顯示技術
參考文獻
第6章有機發光顯示與柔性顯示技術
6．1有機發光二極體顯示技術
6．1．1OLED簡介
6．1．2OLED器件
6．1．3OLED製備工藝
6．1．4OLED像素及其驅動
6．1．5OLED技術展望
6．2柔性顯示技術
6．2．1柔性顯示技術介紹
6．2．2電子紙顯示技術
參考文獻
附錄縮略語中英文對照表
