內容提要
脈衝雷射沉積動力學與玻璃基薄膜本書完整、深入地總結了作者在自潔淨玻璃和空芯光纖的研究中諸多具有獨創性的研究成果：在玻璃基上製備具有光催化和節能雙重功能的Ti02薄膜和TiO2/TiN/TiO：多層薄膜；製備以石英玻璃毛細管為基的多種高反射薄膜、不同體系的全反射薄膜等多種體系材料，並用於製備空芯光纖。有關材料的製備工藝、性能表征和機制研究具有深遠的套用背景。
本書的兩部分具有相對的獨立性，但是內容彼此呼應，具有內在的邏輯聯繫，互補性很強，形成完整的科學結構。因此，儘管本書的內容完全取自最新研究成果，但是其系統性和可讀性卻很強。本書適合於從事材料科學和凝聚態物理研究的科學工作者，也可作為有關領域的博士生或碩士生的教科書和參考書。
作者簡介
張端明。華中科技大學特聘教授，凝聚態一材料物理中心學術委員會主任.博士生導師.湖北省物理協會理事。在特種納米複合功能材料及雷射沉積動力學、複雜網路拓撲結構及功能、非均勻顆粒系統和非平衡隨機動力學、基礎量子理論以及有序介質的拓撲理論等領域的研究中，成果卓著。在《美國物理評論》、《套用物理》、《歐洲物理》、《中國物理快報》等權威雜誌上發表論文約210篇，出版專著及教材10本，獲國家專利1項，主持國家級和省部級科研項目20餘項。
在科研和教學工作中多次獲得國家級、省部級獎勵。教授量子場論、規範場論、固體量子場論、鐵電和鐵磁物理、群論、基本粒子物理學、原子核物理、非線性物理、早期宇宙學、量子力學、熱力學與統計物理學等30餘門課程。歷訪國際理論物理中心、莫斯科大學、哈佛大學、麻省理工學院、紐約大學、康乃爾大學、賓夕法尼亞大學等，多次參加國際學術會議。
目錄
總序
前言
上篇脈衝雷射沉積動力學
第1章 薄膜材料與製備方法引論
1.1 薄膜材料的特點
1.2 常見的薄膜材料
1.2.1 結構薄膜材料
1.2.2 功能薄膜材料
1.3 鐵電薄膜材料
1.3.1 鐵電薄膜材料的結構、性能與套用
1.3.2 鐵電薄膜製備
1.4 鉭鈮酸鉀鐵電薄膜材料
1.4.1KTN材料的結構與相變
1.4.2KTN材料的介電與鐵電性能
1.4.3KTN薄膜的製備、實驗研究現狀及發展趨勢
1.5常見的薄膜製備方法
1.5.1真空蒸發沉積
1.5.2分子束外延法
1.5.3溶膠一凝膠法
1.6濺射法
參考文獻
第2章 薄膜的缺陷和界面與實驗表征
2.1薄膜的缺陷
2.1.1點缺陷
2.1.2線缺陷
2.2薄膜的界面與薄膜間的相互擴散
2.2.1薄膜與襯底間的界面
2.2.2不同材料薄膜之間的界面
2.3常見的實驗表征方法
2.4X射線衍射分析
2.5掃描隧道顯微鏡
2.6掃描近場光學顯微鏡
參考文獻
第3章 脈衝雷射沉積技術及其Z-L模型一般描述
3.1PLD技術發展過程
3.2PLD技術製備薄膜的實驗工藝
3.3PLD技術製備過程的一般描述
3.3.1PLD技術的物理圖像的一般描述
3.3.2雷射與靶材的相互作用
3.3.3電漿膨脹
3.3.4襯底上沉積成膜
3.4PLD技術的Z—L模型簡介
3.4.1脈衝雷射燒蝕靶材過程的描述
3.4.2電漿的空間膨脹過程研究
3.4.3薄膜沉積特性研究
3.4.4電漿衝擊波模型
參考文獻
第4章 雷射燒蝕的基本模型與含熱源項模型
4.1雷射燒蝕產生的燒蝕面的位置演化規律
4.1.1燒蝕過程的基本物理圖像
4.1.2燒蝕面的位置演化規律
4.2燒蝕方程的導熱方程和定解條件
4.2.1導熱方程與定解條件
……
第5章 含蒸發項和熱源項的以及靶材吸收率燒蝕模型
第6章 電漿的演化及衝擊波規律研究
第7章 薄膜生長過程研究
第8章 相爆炸和PLD技術機制研究最新進展
第9章 TiO2薄膜光化催化自潔淨玻璃的溶膠-凝膠技術製備研究
第10章 TiO2薄膜的磁控濺射法製備
第11章 玻璃基TiO2/TiN/TiO2多層膜的濺射製備
第12章 石英玻璃毛細管內高反射薄膜的製備
第13章 全反射與全反射薄膜空芯光纖
第14章 毛細管內薄膜製備技術的研究
第15章 緻密氧化鋁薄膜全反射空芯光纖的研究
第16章 GeO2基全反射薄膜空芯光纖的製備研究
跋
後記
