聚光科技，總部位於中國杭州，是世界領先的環境與安全檢測分析儀器供應商，擁有國際一流的研發、行銷、套用服務和供應鏈團隊，致力於業界最前沿的各種分析檢測技術研究與套用開發，提供滿足全球市場需求的高端分析測量儀器、完善的行業套用解決方案和售後服務。
聚光科技為客戶提供環境監測、食品安全、工業安全、公共安全等領域完整的分析檢測及信息化管理整體解決方案。產品廣泛套用於環保、冶金、石化、化工、能源、食品、農業、交通、水利、建築、製藥、釀造、航空及科學研究等眾多行業。主打產品在國內市場居於領先地位，並出口到美國、日本、英國、俄羅斯等二十多個歐美已開發國家。
發展簡史
2002年1月4日，公司註冊成立於杭州國家高新技術產業開發區。
2003年11月24日，公司第一款產品半導體雷射氣體分析儀通過CMC認證，獲製造計量器具許可證，開始小批量試生產。
2005年12月，公司通過ISO9001：2000質量管理體系認證。.
2006年1月，雷射線上氣體分析系統獲“2005年度浙江省科學技術獎一等獎”。
2006年1月12日，公司研發管理體系通過CMMI2評估認證。
2006年5月，公司另一拳頭產品分光光譜氣體分析儀通過CMC認證，獲製造計量器具許可證。
2006年6月，煙氣分析系統通過CMC認證，獲製造計量器具許可證，公司正式進入環保產品市場。
2006年11月，“LGA型雷射現場線上氣體分析系統”被評為“國家重點新產品”。
2006年12月，煙氣分析產品CEMS-2000通過“中國環境保護產品認證”。
2007年7月，線上紫外/可見/近紅外光纖光譜分析儀通過CMC認證。
2008年6月，入選“福布斯-中國最具潛力企業百強”（排名第73位）。
2008年8月， 水質線上監測儀（SWA-2000）通過“中國環境保護產品認證”。公司開始進軍水質檢測領域。
2009年1月，入選福布斯 “中國最具潛力企業百強”（排名第64位）。
2009年4月，“SupNir-1000系列攜帶型近紅外分析儀”被評為“2008科學儀器優秀新產品”。公司近紅外產品開花結果。
2009年5月，公司通過“計算機信息系統集成企業資質三級認證”。
2009年7月，“DTS-2000分散式光纖測溫系統”順利通過新國標認證，獲得由國家消防電子產品質量監督檢驗中心出具的權威型式檢驗報告。
產品與服務
LGA-3100雷射氣體分析儀
1. 產品概述
LGA-3100分散式雷射過程氣體分析系統是基於半導體雷射吸收光譜（DLAS）技術，並採用分散式測量方式，可同時對多個測量點的氣體濃度進行實時分析，具有高性價比的雷射氣體分析產品。
2. 產品特點
●可靠性高的分散式測量
LGA-3100分散式雷射過程分析系統採用獨立的測量單元和集中控制的中央單元的系統結構，可實現多達八個不同測量套用（不同工藝點和氣體組份）的同時檢測。各測量通道獨立的雷射器和光電測量模組確保了系統的高可靠性，即使中央單元或某個測量通道出現問題，也不會影響其他通道測量。
●環境適應性強，測量漂移小
LGA-3100分散式雷射過程分析系統由於克服粉塵等環境因素對測量影響，大大提高了系統的測量穩定性，標定周期長達半年。同時，各測量通道採用獨立的標定模式，確保標定的準確性，符合最嚴格的計量設備標定要求。
●集中顯示與控制，網路智慧型管理
LGA-3100中央單元是基於高性能32位處理器的智慧型化控制單元，採用彩色觸控螢幕人機界面，功能強大、操作方便；同時系統還支持RS485\RS232\GPRS等多種通訊方式，可方便實現遠程調試維護、軟體升級等功能，大大提高了系統的適用性和服務回響能力。
3. 典型套用點文字
適用範圍：適用於鋼鐵、冶金、熱電、石化、化工、焦化等行業。
LGA-3500雷射氣體分析儀
1.產品概述
LGA-3500 系列半導體雷射氣體分析儀是基於半導體雷射吸收光譜技術（DLAS）和DSP數位技術的新一代高性價比產品，它秉承了DLAS技術的獨特優勢，並採用高度集成化的一體化結構設計，體積小，穩定可靠。LGA-3500能夠可靠地運行在各種高溫、高壓、高粉塵、強腐蝕等環境下，線上實時地檢測工業過程中的氣體濃度等參量。
2.產品特點
■領先的半導體雷射吸收光譜技術
LGA-3500以高穩定性、低噪聲的半導體雷射器為光源，採用半導體雷射吸收光譜（DLAS）技術，測量精度高，性能穩定，由於有效克服了背景、水分、粉塵顆粒、光源變化等因素對測量的影響，系統不僅抗干擾能力強、檢測靈敏度高等特點，還具有測量漂移小、可靠性高等優勢。
■ 適合更多場合的套用能力
LGA-3500的防護等級達IP66；能夠適應-20°C～50°C的環境溫度；自帶溫度補償模組，可以自動修正溫度變化的影響；採用回返式光路設計，結構經湊、體積小、輕便；非接觸光電測量方式，可以採用熱法（氣體室可加熱到100°C）分析；與氣體接觸的部分可採用標準的316L、Monel、PTFE等材質，滿足各種腐蝕性場合。
■ 系統穩定性好，維護量小
LGA-3500採用非接觸式光學測量方式，無運動部件，同時系統內置高性能的處理器，具有智慧型的自檢測報警和自恢復功能，可靠性高，穩定性好，日常近乎免維護。
■ 全系統防爆
LGA-3500採用一體化全系統（包括預處理系統）的正壓防爆技術確保整個系統安全地運行在各類I、II危險區域。
3. 典型套用點文字及圖片
廣泛套用於化工、水泥、環保、冶金等領域。
LGA-4100雷射氣體分析儀
1. 產品概述
基於半導體雷射吸收光譜（DLAS）技術的LGA-4100雷射過程氣體分析系統是採用一體化設計、高集成度的雷射氣體分析系統。系統通過無須採樣預處理的原位（In-Situ）測量方式，能對各類工業過程氣體、環保排放煙氣等過程氣體進行快速、準確和可靠的測量，為各行業氣體線上監測提供了最佳解決方案。
2. 產品特點
◆可靠性高的一體化設計
LGA-4100 雷射過程氣體分析系統綜合利用了半導體吸收光譜、數位訊號處理、一體化正壓防爆控制等多項技術，系統緊湊，可靠性高；同時針對各類防爆場合套用，系統內嵌正壓控制模組，可實現防爆吹掃正壓實時監控，滿足各類防爆套用要求。
◆多項創新的設計，顯著提高系統適應性：
基於FPI多年的雷射氣體分析產品的開發和套用經驗，LGA-4100 雷射線上氣體分析系統上集成了多項創新設計，大大提升系統對各類惡劣套用環境適應力。
◆智慧型化設計，操作方便
LGA-4100系統發射單元集成LCD顯示屏和三防鍵盤，用戶可在安裝現場直接進行標定、參數設定等操作；同時，系統還支持藍牙通訊方式，用戶可通過LGA掌上助手與分析系統進行無線通訊，操作方便、快捷。
3. 典型套用點文字
適用範圍：適用於鋼鐵、冶金、熱電、石化、化工、焦化等行業。
LGA-4500雷射氣體分析儀
1. 產品概述
LGA-4500系列雷射過程氣體分析系統是基於半導體吸收光譜（DLAS）技術的旁路過程氣體分析產品，可對各類高粉塵、高壓過程氣體進行旁路處理後的線上分析。
2. 產品特點
◆基於半導體吸收光譜技術的旁路分析產品，測量精度高、漂移小系統以高穩定性、低噪聲的半導體雷射器為光源，採用半導體雷射吸收光譜 (DLAS) 技術的旁路氣體分析系統。由於有效克服了背景氣氣體組份、粉塵顆粒、光源變化等因素對測量的影響，系統不僅擁有抗干擾能力強，檢測靈敏度高的特點，還具有測量漂移小、可靠性高等優勢。
◆高溫、強腐蝕性氣體的線上檢測
系統採用非接觸光學檢測技術，可對各類高溫氣體（超過140℃）進行直接分析；針對各類腐蝕環境下的檢測套用，系統可選配316L、Monel、PTFE等多種材質的測量氣室，滿足各類套用要求。
◆安裝於過程管道現場的旁路處理系統，可靠性高、回響速度快
基於半導體雷射吸收光譜（DLAS）獨特的技術優勢，系統可採用熱法處理（預處理系統加熱至100℃以上）和分析，旁路處理裝置無運動部件，可靠性高；系統環境適應能力強，可直接安裝在過程管道處取樣、處理和分析，回響速度快。
◆全系統防爆，支持氣體溫度、壓力補償
系統（包括旁路處理裝置）全部採用防爆設計，可滿足各類危險區域的套用要求，安全可靠。同時，系統還可選溫度、壓力感測模組，可對氣體溫度、壓力進行實時監測和補償，滿足高精度測量要求。
3. 典型套用點文字
適用範圍：適用於鋼鐵、冶金、熱電、石化、化工、焦化等行業。
CEMS-2000系列煙氣排放連續監測系統
CEMS-2000系列煙氣排放連續監測系統是由聚光科技（FPI）自主研發製造的高端環保監測設備，主要針對各種鍋爐、工業窯爐和垃圾焚燒等場合的煙氣監測。該系統的核心產品是高品質的紫外分光光譜氣體分析儀和雷射煙塵檢測儀，聚光科技擁有這些核心儀表的全部智慧財產權。該系列有CEMS-2000s和CEMS-2000f兩個型號。
CEMS-2000s採用紫外熱濕法測量SO2、NOx，氧化鋯法測量O2，CEMS-2000f在CEMS-2000s的基礎上增加冷凝裝置和COx模組，可以實現CO、CO2的測量。
產品特點：
◎氣體分析採用紫外差分技術，有效解決水、粉塵等因素對測量的影響。
◎採用熱濕法測量原理，避免SO2冷凝損失及腐蝕氣路。
◎採用獨有的多層疊孔過濾器，粉塵過濾更徹底、反吹更有效，免維護周期長。
◎氣體分析儀採用閃爍紫外氙燈，壽命可達十年。
◎取樣系統採用射流泵，系統結構簡潔且無運動部件，可靠性高。
◎系統拓展性強、組網靈活，可以充分滿足不同客戶的檢測需求。
技術規格：
1 SO2、NOx分析儀
分析方法：紫外差分光學吸收光譜法
量程：0～300～5000ppm（可根據買方需求定製）
零點漂移：≤±1%FS/7d
全幅漂移：≤±1%FS/7d
精確度：≤±1%
回響時間：＜30s
2 O2測量
分析方法：氧化鋯或電化學法
量程：0～25%（可根據買方需求定製）
線性度：≤±1%
指示誤差：≤±1%FS
輸出信號：4～20mA、RS485
3 HCl、HF分析儀
分析方法：半導體雷射吸收光譜法
量程：0～5ppm～1000ppm（可根據買方需求定製）
檢出下限：0.01 ppm
零點漂移：≤±1%FS/7d
量程漂移：≤±1%FS/半年
重複性誤差：≤±1%FS
回響時間：＜1s
4 粉塵儀
分析方法：雷射透射法
量程：0～1000～15000 mg/Nm3（可根據買方需求定製）
光程: 0.5～15m
零點漂移：≤±1%FS/7d
全幅漂移：≤±2%FS/7d
解析度：≤±0.5%
回響時間：≤10s
5 溫度模組
量程: 0～400℃（可根據買方需求定製）
精度: ±0.5%
輸出信號型式：（4～20）mA
6 壓力模組
量程: -10～10 kPa（可根據買方需求定製）
精度: ±0.5%
輸出信號型式：（4～20）mA
7 流速模組
量程: 0～40 m/s（可根據買方需求定製）
精度: ±10%
輸出信號型式：（4～20）mA
8 濕度測量
量程: 0-100%RH
精度: ±1.5%RH
回響時間：≤30s
9 CO測量
量程：0～1000ppm（可根據買方需求定製）
線性度：≤±2%FS
回響時間：≤30s
輸出信號：4～20mA、RS485
10 CO2測量
量程：0～25%（可根據買方需求定製）
線性度：≤±2%FS
回響時間：≤30s
輸出信號：4～20mA、RS485
