濺射靶材(純度:99.9%-99.999%)
1. 金屬靶材:
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁矽靶、alsi、矽靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不鏽鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化矽靶、碳化矽靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化矽靶、一氧化矽靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化矽靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化矽靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
相關詞條
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靶材
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材...
材質分類 發展 製作工藝 套用領域 -
磁控濺射
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用於製備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有...
原理 種類 濺射技術 磁控濺射設備的主要用途 -
真空磁控濺射技術
真空磁控濺射技術是指一種利用陰極表面配合的磁場形成電子陷阱,使在E×B的作用下電子緊貼陰極表面飄移。 設定一個與靶面電場正交的磁場,濺射時產生的快電子在...
原理 特點 分類 方法 存在問題 -
磁控濺射技術
磁控濺射是在陰極靶的表面上方形成一個正交電磁場。 磁控濺射的技術特點是要在陰極靶面附屬檔案產生與電場方向垂直的磁場,一般採用永久磁鐵實現。 直流磁控濺射的特...
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金屬靶材
合金具有低的電阻係數、良好的熱穩定性能和抗氧化性能。 solar 我國研發的超大尺寸、高密度、高純W-Ti
概述 W-Ti靶材 套用 發展前景 -
濺射靶材
濺射靶材,要求較傳統材料行業高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙...
基本簡介 主要套用 -
2011中國國際真空鍍膜技術及靶材展覽會
支持單位:中國機械工業聯合會 主辦單位:中國表面工程協會 2.得到上百家包括中國機械工業聯合會在內的國內外用戶協會、行業協會支持、協辦;
展會信息 展會介紹 展示內容 -
磁控濺射法
在高真空充入適量的氬氣,在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電,使氬氣發生電離。
套用 定義 優勢 -
磁控濺射鍍膜
磁控濺射鍍膜 magneto-controlled sputter coating是指: 是將塗層材料做為靶陰極,利用氬離子轟擊靶材,產生陰極濺射,把靶材原子濺射到工件上形成沉積層的一種鍍膜技術,塗層材料一直...