相關詞條
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真空濺射鍍膜設備
《真空濺射鍍膜設備》是2010年機械工業出版社出版的圖書，作者是本社。
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濺射
濺射對於遠程有彈道英雄就像分裂斬對於近戰英雄，它和分裂斬有相似也有不同的地方。最大的不同在於AoE在彈道擊到的目標處決定，而不是分裂斬由攻擊者站立的地方...
Dota濺射 技術套用 -
濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子（離子或中性原子、分子）轟擊固體表面，使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
台式真空封口機
該機適用於電子產品、食品的真空包裝，如半導體、晶體、IC、PCB、金屬加工件的防潮，防氧化變色等經過包裝後的產品可防止氧化、 霉變、蟲蛀、受潮、可 保質...
台式真空封口機 真空包裝 套用領域 選用原則 -
真空工程設計
《真空工程設計》是2016年化學工業出版社出版的圖書，作者是劉玉魁、楊建斌、肖祥正。
內容簡介 圖書目錄 -
離子濺射鍍膜法
離子濺射鍍膜法是離子濺射形成干涉膜是增進相間襯度顯示組織的新方法。
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陰極濺射
當真空室內的真空度為13Pa時，在陰陽兩電極之間加上一定的電壓，氣體就會發生自激放電，從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽極或真空室的壁上。這種濺射就稱...
濺射和輝光放電 陰極濺射 -
消氣劑濺射
當真空室內的真空度為13Pa時，在陰陽兩電極間加上一定的電壓，氣體發生自激放電，從陰極發射出的原子或原子團可沉積在陽極或真空室的壁上。 因此，外部電路中...
介紹 優點 缺點 相關詞條 相關連結 -
真空鍍膜機
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是...
簡介 使用步驟 適用範圍 化學成分 操作程式 -
真空獲得設備
擴散噴射泵14 低溫泵15 濺射離子泵 ...
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