水和廢水臭氧氧化

水和廢水臭氧氧化

《水和廢水臭氧氧化》是2004年中國建築工業出版社出版的圖書,作者是克里斯蒂安·戈特沙克、尤迪·利比爾、阿德里安·紹珀。

基本信息

內容簡介

《水和廢水臭氧氧化:臭氧及其套用指南》包含兩部分:A部分是臭氧氧化概述,B部分是臭氧的套用。A部分旨在提供臭氧氧化的一般背景,簡要地回顧了臭氧的毒理、反應機理和臭氧氧化的工業套用,這為其實驗研究和套用奠定了基礎。B部分旨在提供一些如何進行實驗和套用的信息。這部分首先討論了如何進行實驗設計、所需設備、分析方法和數據評估,然後探討了進行上述工作所需的理論基礎。其目的在於涵蓋臭氧氧化的基本知識,以便為實際套用打下堅實的基礎;這部分還包含了大量參考文獻,以便讀者可以更深入地研究臭氧氧化特性。B部分最後討論了臭氧氧化與其他處理過程的組合問題。

作者簡介

作者:(德國)克里斯蒂安·戈特沙克(德國)尤迪·利比爾(德國)阿德里安·紹珀譯者:李風亭張冰如張善發等克里斯蒂安·戈特沙克,環境工程博士,1987年開始從事臭氧研究,一直在柏林工業大學和ASTeX公司從事飲用水和半導體行業中的臭氧研究和開發工作。尤迪·利比爾,柏林工業大學水質控制教授,自1976年以來一直從事臭氧氧化和氧化方面的研究,尤其是臭氧/生物活性炭,廢水處理高級氧化過程中臭氧微絮凝機理研究。MartinJekel先生擁有化學工程博士學位,自1988年以來一直擔任教授職務。他特為本書撰寫了A3部分。阿德里安·紹珀,環境工程碩士,首先開始從事兩相體系的臭氧氧化研究,以後又從事三相體系研究。擔任柏林工業大學德國科學基金會stbl93課題“工業廢水的生物處理”的負責人。她撰寫了B6.3部分。

目錄

A 臭氧概述

1 毒理學

1.1 背景

1.2 氣相臭氧

1.3 液相臭氧

1.4 副產物

參考文獻

2 反應機理

2.1 臭氧氧化

2.1.1間接反應

2.1.2 直接反應

2.2 高級氧化過程(AOP)

參考文獻

3 T業套用

3.1 緒言

3.2 臭氧氧化在飲用水處理中的套用

3.2.1 消毒

3.2.2 無機化合物的氧化

3.2.3 有機化合物的氧化

3.2.4 顆粒物去除過程

3.3 臭氧氧化在廢水處理中的套用

3.3.1 消毒

3.3.2 機化合物的氧化

3.3.3 有機化合物的氧化

3.3.4 顆粒物去除

3.4 臭氧氧化的經濟問題

參考文獻

B 臭氧的套用

1 實驗設計

1.1 影響臭氧氧化的參數

1.2 實驗設計過程

1.3 臭氧相關數據

參考文獻

2 實驗裝置和分析方法

2.1 與臭氧接觸的材料

2.1.1 中試套用和實際套用材料

2.1.2 實驗室實驗所用材料

2.2 臭氧的製備

2.2.1 放電式臭氧發生器(EDOGs)

2.2.2 電解式臭氧發生器(ELOGs)

2.3 臭氧氧化反應器

2.3.1 直接供氣反應器

2.3.2 間接供氣或者不供氣反應器

2.3.3 氣體分散器類型

2.3.4 運行模式

2.4臭氧檢測

2.4.1 檢測方法

2.4.2 臭氧測定的實際問題

2.5 安全問題

2.5.1 廢氣中剩余臭氧的去除

2.5.2 環境空氣中臭氧的監測

2.6 常見的疑問、難題和易犯的錯誤

參考文獻

3 傳質過程

3.1 傳質理論

3.1.1 單相中的傳質過程

3.1.2 兩相間的傳質過程

3.1.3 臭氧的平衡濃度

3.1.4雙膜理論

3.2 影響傳質的參數

3.2.1 同步化學反應中的傳質

3.2.2 傳質係數的預測

3.2.3 (廢)水成分對於傳質的影響

3.3 傳質係數的測定

3.3.1 無傳質增強的非穩定態方法

3.3.2 無傳質增強的穩定態方法

3.3.3 傳質增強

3.3.4 臭氧傳質係數的間接測定

參考文獻

4 反應動力學

4.1 背景

4.2 反應級數

4.3 反應速率常數

4.4 影響反應速率的參數

4.4.1 氧化劑的濃度

4.4.2 溫度

4.4.3 pH值的影響

4.4.4 無機碳的影響

4.4.5 有機碳對自由基鏈反應機理的影響

參考文獻

5 臭氧氧化過程模擬

5.1 臭氧氧化過程的化學模型

5.2 飲用水氧化過程模型

5.2.1 以反應速率方程和實驗數據為基礎的模型

5.2.2 以反應機理為基礎的模型

5.2.3 以質量平衡為基礎的半經驗模型

5.2.4 經驗自由基引發速率

5.2.5終止劑的選擇經驗

5.2.6 飲用水化學模型的總結

5.2.7 包括物理過程的模型

5.3 廢水氧化模擬

5.3.1 以反應機理和質量平衡為基礎的化學和物理模型

5.3.2 經驗模型

5.3.3 總結

5.4 模型的最後評論

參考文獻

6 臭氧在組合工藝中的運用

6.1 在半導體工業中的套用

6.1.1 原理和目的

6.1.2 現有的清洗工藝

6.1.3 工藝和/或實驗設計

6.2 高級氧化過程

6.2.1 原理和目的

6.2.2 現有高級氧化過程

6.2.3 實驗設計

6.3 三相系統

6.3.1 原理和目的

6.3.2 現有過程

6.3.3 實驗設計

6.4 臭氧氧化和生物降解

6.4.1 原理和目的

6.4.2 現有過程

6.4.3 實驗設計

參考文獻

術語表

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