氟化鎂膜

氟化鎂膜

氟化鎂膜也稱氟化鎂,具有四方晶繫結構,熔點為1255攝氏度,熱導率0.3W/m·K,折射率1.38,消光係數0。入射光在薄膜的上、下界面反射具有相同的位相變化,若選擇薄膜的光學厚度等於入射光波長的四分之一,則相鄰兩束反射光的位相差恰好是2,所有反射光相疊加的結果可以實現反射相消,因而形成透射增強。非晶態氟化鎂薄膜一般可用真空蒸鍍或濺射澱積的方法製得。

簡介

氟化鎂膜也稱氟化鎂,具有四方晶繫結構,熔點為1255攝氏度,熱導率0.3W/m·K,折射率1.38,消光係數0。

製取方法

非晶態氟化鎂薄膜一般可用真空蒸鍍或濺射澱積的方法製得 。

原理及套用

單層氟化鎂薄膜可作為增透膜鍍在光學玻璃表面上。由於它的折射率低於光學玻璃的折射率(1.52),入射光在薄膜的上、下界面反射具有相同的位相變化。若選擇薄膜的光學厚度等於入射光波長的四分之一,則相鄰兩束反射光的位相差恰好是π,所有反射光相疊加的結果可以實現反射相消,因而形成透射增強。例如在折射率1. 52的玻璃表面鍍上單層氟化鎂,增透膜後,中心波長反射率從原來的4.2%降至1.3%左右,而且反射率在可見光(450-760nm)範圍內都小乾2%。

改進方法

一般情況下,為了實現“零反射”,或在較寬的光譜區獲得更好的增透效果,往往採用二層、三層或多層消反膜。例如,在上述玻璃表面鍍上各光學原度滿足要求的三層膜,則在150-800nm的光譜層內,反射率都小於0. 4%;其中在150nm附近以及在650 -700nm波段,反射率接近於零 。

氟化鎂的性質

氟化鎂是一種無色 四方晶體或粉末,無味,難溶於水和 醇,微溶於稀酸,溶於 硝酸。在電光下加熱呈弱紫色螢光,其晶體有良好的 偏振作用,特別適於紫外線和紅外光譜。有毒性。無色結晶或白色粉末。 金紅石型晶格。微有紫色螢光。極微溶於水(18℃,87mG/L),微溶於稀酸(特別是 硝酸)。相對密度3.18。 熔點1248℃。 沸點2260℃。致死量(豚鼠,經口)1.0G/kG。有刺激性。

氟化鎂的用途

光學透鏡鍍膜。光學器材鍍上一層氟化鎂膜層,可以減少鏡頭界面對射入光線的反射,減少光暈,提高成像質量(薄膜干涉)。另外氟化鎂還套用在陶瓷、電子工業;製造陶瓷、玻璃;冶金鎂金屬的助熔劑;陰極射線屏的螢光材料;焊劑等 。

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