簡介
方國平,1964年12月出生,大學本科學歷,理學學士,研究員,碩士生導師。現任上海光源副總工藝師、公用設施技術部主任。研究方向
上海光源工藝冷卻水最佳化設計、工藝冷卻水系統構成與原理設計、工藝冷卻水系統構成與溫度控制精度的研究、工藝冷卻水在保證水溫精度下的節能研究,溫度調節手段研究。主要經歷
一、學習經歷1982年09月1986年06月山東大學理學學士學位
二、科研工作經歷
主要從事加速器用的工藝冷卻水、電、氣的設計工作。
現主持上海光源公用設施分總體的設計與建設工作。
學術成就
工藝冷卻水溫度精度的控制手段和方法研究近幾年來國外光源裝置給予了很大的重視,由於其溫度變化對束流穩定性的影響,國外光源裝置對水的溫度精度提出了很高的要求。基於上海光源裝置工藝冷卻水溫度精度的要求,我們對工藝冷卻水溫度45±0.1℃、35±0.5℃、30±0.2℃等不同等級的基準溫度和精度進行了研究,並在小流量的冷卻水系統中取的了比較好的結果。主要包括工藝冷卻水系統的設計、工藝冷卻水溫度精度的控制手段和方法、工藝冷卻水溫度變化對束流穩定性的影響。
代表性工作:100MeV電子直線加速器工藝冷卻水水溫控制。
論文發表
在國內外學術刊物上已發表學術論文若干篇。李文靜、吳立、金惠明、袁平均、方國平,上海光源工程(SSRF)工藝冷卻水系統設計,暖通空調,2008-6:71-75;
李立、方國平等,模糊PID控制在冷卻水溫控制系統中的套用,控制工程,2008-05:122-125
中國科學院碩士生導師
籌建於1958年10月,1959年8月正式成立,時稱中國科學院上海理化研究所,2003年6月經國家批准定為現名。擁有兩大園區,分別坐落於上海市科技衛星城嘉定區和浦東張江高科技園區,占地面積共約700畝。 |