畢業於成都電子科技大學。曾任職於長沙韶光微電子總公司鉻版廠。現任職於深圳馬斯克真空技術有限公司。主要貢獻:專業特長為光掩模鉻版成膜技術。在一九一八研究所工作期間,擔任第二研究室攻關組長,主持研製積體電路高可靠薄膜內引線及封裝工藝,為研製多種高可靠積體電路奠定了技術基礎,確保三抓工程任務的完成。在鉻版廠的工作,主要成績有兩項,一是由引進時的一個品種二個規格,經幾年的努力,發展到三個品種六個規格,使IC生產用鉻版系列化;是提出"中心值控制法",使成膜成品率由85%提高到95%。浙江紹興真空電子公司建成以厚膜網路為基礎的VFD生產線,不能適應VCD的發展形勢,於1995-1996年研製成該公司急需的VFD薄膜網路,填補國內空白,使該公司順利生產VCD用顯示器件,並為該公司薄膜型VFD生產線引進及建設打下技術基礎。近幾年,顯示器件(包括LCD、PDP及VFD)飛速發展,這些產品的生產都需要大面積光掩模鉻版。已完成成膜工藝的研製,並在馬斯克公司參與大面積標準型光掩模鉻版生產線的建設。
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