反應室

反應室處理的方法，此方法是適用於處理反應室中的碳殘留物與矽殘留物。此方法包括於反應室中通入氧氣，以於此反應室中進行氧氣電漿處理製程，而使碳殘留物與矽殘留物分別生成二氧化碳氣體與氧化矽。由於所生成的二氧化碳氣體會排出反應室，且氧化矽會粘著於反應室的壁上，因此可以避免後續蝕刻製程遭受到碳殘留物與矽殘留物的污染。