相關詞條
-
原子層沉積
是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中,新一層原子膜的化學反應是直接與之...
簡介 原理 技術套用 專利 分析 -
原子層沉積系統 ald
Picosun的原子層沉積系統ALD發展至今已經是第15代了,Picosun ALD可用於製備高質量的LED和機械零部件表面的保護塗層。原子層沉積已經在...
-
半導體製造技術導論(第二版)
; 第9章詳細介紹了刻蝕工藝; 第10章介紹了基本的化學氣相沉積(CVD)和電介質薄膜沉積工藝, 以及多孔低k電介質沉積、氣隙的套用、 原子層沉積(ALD)工藝過程; 第11章介紹了金屬化工藝; 第12章討論了化學...
簡介 目錄 -
先進制造與技術實驗中心
柔性電子類 19第一代原子層沉積設備 柔性電子類 20管流式原子層沉積系統 柔性電子類 21離心流化式原子層沉積系統 柔性電子類 22RH-100原子層沉積系統 柔性電子類 23粉體ALD系統 VF-ALD...
大型儀器設備信息 開放共享進程 -
自對準雙重成像技術
原子層沉積技術(atomic layer deposition, ALD...(薄膜沉積、刻蝕等)實現對光刻圖形的空間倍頻。最後,使用另外一次光刻和刻蝕...、刻蝕和薄膜沉積等工藝做集成。對設計工程師也有新的挑戰,設計的版圖必須符合...
-
中國科學院物理研究所微加工實驗室
);等離子去膠機(PS); 生長設備:原子層沉積系統(ALD);熱蒸發...生長系統;以及電漿增強化學氣相沉積系統(PECVD)。 測量設備...0.5微米的真空接觸式雙面掩膜對準系統(MA6);電子束曝光解析度優於...
-
中國科學院微電子研究所納米加工與新器件集成技術研究室
、高溫PECVD、原子層沉積系統ALD、光學曝光機等先進加工設備,檢測設備...電子束光刻系統和解析度15nm的JEOL JBX-6300FS電子束光刻系統,解析度350nm的MEBES 4700電子束製版系統和...
研究室簡介 學科方向 科研實力