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等離子刻蝕機
等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、電漿刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕，是乾法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是...
產品介紹 影響因素 缺點 裝片 測量與控制 -
原子力顯微鏡
原子力顯微鏡（Atomic Force Microscope ，AFM），一種可用來研究包括絕緣體在內的固體材料表面結構的分析儀器。它通過檢測待測樣品表...
簡介 原理 優缺點 儀器結構 工作模式 -
濃度界層
任何流體（氣體或液體）由於分子運動，其內部的濃度是均勻的。但當流體與另一液體或固體接觸時，根據邊界層理論，它的分子向相界面擴散受到阻力，界面上物質的濃度...
基本信息 介紹 研究 -
半導體製造技術導論（第二版）
； 第9章詳細介紹了刻蝕工藝； 第10章介紹了基本的化學氣相沉積（CVD）和電介質薄膜沉積工藝， 以及多孔低k電介質沉積、氣隙的套用、 原子層...4.5 外延矽生長技術4.5.1 氣相外延4.5.2 外延層...
簡介 目錄 -
微加工導論
、電漿刻蝕結構、濕法刻蝕的矽結構、犧牲層結構和沉積的結構；工藝集成部分包括...工藝部分包括了薄膜製備、外延、光刻、刻蝕、熱氧化、擴散、離子注入... 7.3CVD膜的生長和結構 7.4表面和界面 7.5黏附層和阻擋層...
簡介 目錄 -
反應離子腐蝕技術
基(游離態的原子、分子或原子團) 也稱為電漿, 具有很強的化學活性, 可與被刻蝕樣品表面的原子起化學反應, 形成揮發性物質, 達到腐蝕樣品...電子與氣體分子或原子進行隨機碰撞, 當電子能量大到一定程度時, 隨機碰撞...
工作原理 腐蝕氣體的選擇 刻蝕技術的發展 -
錢林茂
摩擦與粘著的影響機理”、“原子力/摩擦力顯微鏡針尖和樣品間的材料轉移機制... 。榮譽獎勵1998年獲教委科技進步二等獎：雷射檢測原子力/摩擦力顯微鏡的研製...）：單晶矽表面原子層狀去除的行為與機理（2014-2017）4.國家納米...
個人履歷 學術成果 榮譽獎勵 學術兼職 科學研究 -
反應離子刻蝕
或原子團) 也稱為電漿, 具有很強的化學活性, 可與被刻蝕樣品表面的原子起...刻蝕工藝過程電漿刻蝕工藝包括以下六個步驟。 分離： 氣體由電漿..., 在強電場作用下, 被高頻電場加速的雜散電子與氣體分子或原子進行隨機...
刻蝕工藝過程 工作原理 設備 操作方法
