光柵攝譜儀

光柵攝譜儀

WP1一米平面光柵攝譜儀是在200n m波段範圍內作發射光譜分析的儀器。 二米平面光柵攝譜儀

光柵攝譜儀一米平面光柵攝譜儀
光柵攝譜儀儀器利用平面反射式光柵分光研究物質的成份和含量,主要用於金屬合金(包括礦物井石)的日常定性定量分析,純金屬和材料的雜贊同鑑定,與各種附屬檔案配合,用作雷射微區分析、記錄閃光弱光現象。

技術參數

工作波段200nm-800nm,儀器焦距f=1050mm,譜板尺寸240×90mm,D/f=1:25,狹縫指標,變化範圍0.003-0.3mm,手輪格值0.001mm,縫寬重複性0.001mm,外形尺寸(包括導軌)1350×1230×420(mm)。

主要特點

儀器採用三透鏡消色差照明方法,狹縫得到均勻照明,使同一條譜線黑度均勻。儀器狹縫前的哈特曼光欄盤上設定哈特曼光欄及三階,九階減光板。使用控制箱控制攝譜過程。儀器配備直流電弧,交流電弧光源,以適應不同分析任務的需要。

儀器介紹

WP1一米平面光柵攝譜儀是在200nm-800nm波段範圍內作發射光譜分析的儀器。廣泛套用於地質冶金機械石油化工等部門作光譜定量和定性分析。

二米平面光柵攝譜儀廣泛地用於地質、冶金、石油、化工、機械等工業部門對礦石、礦物的光譜全分析,金屬及其合金的元素含量分析以及高純物質的雜質痕量分析,稀有元素及稀土元素的定量分析。
定光柵攝譜儀廣泛套用於光源製造及研究(如LED等)、農業、化工、醫藥、生物、石油及印染等行業的光譜及色度特性的線上測量,還可以進行透射、吸收及螢光光譜等的測量。

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