光掩膜基版

光掩膜基版是製作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻製版工藝可以獲得所需光掩膜版。 簡單地說,光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之後就成為光掩膜版。

光掩膜基版是製作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻製版工藝可以獲得所需光掩膜版。簡單地說,光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之後就成為光掩膜版。

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