簡介
光纖光柵1993年hill等人提出了位相掩模技術，它主要是利用紫外光透過相位掩模板後的士1級衍射光形成的干涉光對光纖曝光，使纖芯折射率產生周期性變化寫入光柵，此技術使光纖光柵的製作更加簡單、靈活，便於批量生產。1993年Alkins等人採用了低溫高壓氫擴散工藝提高光纖的光敏特性。這一技術使大批量、高質量光纖光柵的製作成為現實。這種光纖增敏工藝打破了光纖光柵製作對光纖中鍺含量的依賴，使得可選擇的光纖種類擴展到了普通光纖它還大大提高了光致折變數(由10-5最大提高到了10-20這樣可以在普通光纖上製作出高質量的光纖光柵。
光纖光柵是利用光纖材料的光敏性（外界入射光子和纖芯內鍺離子相互作用引起的折射率永久性變化），在纖芯內形成空間相位光柵，其作用的實質是在纖芯內形成（利用空間相位光柵的布拉格散射的波長特性）一個窄帶的（投射或反射）濾光器或反射鏡。
主要特點
光纖光柵具有體積小、波長選擇性好、不受非線性效應影響、極化不敏感、易於與光纖系統連線、便於使用和維護、頻寬範圍大、附加損耗小、器件微型化、耦合性好、可與其他光纖器件融成一體等特性，而且光纖光柵製作工藝比較成熟，易於形成規模生產，成本低，因此它具有良好的實用性，其優越性是其他許多器件無法替代的。這使得光纖光柵以及基於光纖光柵的器件成為全光網中理想的關鍵器件。
1978年K.O.Hill等人首先在摻鍺光纖中採用駐波寫入法製成第一隻光纖光柵，經過二十多年來的發展，在光纖通信、光纖感測等領域均有廣闊的套用前景。隨著光纖光柵製造技術的不斷完善，光纖光敏性逐漸提高；各種特種光柵相繼問世，光纖光柵某些套用已達到商用化程度。套用成果日益增多，使得光纖光柵成為最有發展前途、最具代表性和發展最為迅速的光纖無源器件之一。
主要分類
隨著光纖光柵套用範圍的日益擴大，光纖光柵的種類也日趨增多。根據折射率沿光柵軸向分布的形式，可將紫外寫入的光纖光柵分為均勻光纖光柵和非均勻光纖光柵。其中均勻光纖光柵是指纖芯折射率變化幅度和折射率變化的周期(也稱光纖光柵的周期)均沿光纖軸向保持不變的光纖光柵，如均勻光纖Brag光柵(折射率變化的周期一般為0.1um量級)和均勻長周期光纖光柵(折射率變化的周期一般為100um量級);非均勻光纖光柵是指纖芯折射率變化幅度或折射率變化的周期沿光纖軸向變化的光纖光柵，如chirped光纖光柵(其周期一般與光纖Bragg光柵周期處同一量級)、切趾光纖光柵、相移光纖光柵和取樣光纖光柵等。
均勻光纖光柵
均勻光纖Bragg光柵折射率變化的周期一般為0.1um量級。它可將入射光中某一確定波長的光反射，反射頻寬窄。在感測器領域，均勻光纖Bragg光柵可用於製作溫度感測器、應變感測器等感測器;在光通信領域，均勻光纖Bragg光柵可用於製作帶通濾波器、分插復用器和波分復用器的解復用器等器件。
均勻長周期光纖光柵
均勻長周期光纖光柵折射率變化的周期一般為100um量級，它能將一定波長範圍內入射光前向傳播芯內導模耦合到包層模並損耗掉。在感測器領域，長周期光纖光柵可用於製作微彎感測器、折射率感測器等感測器;在光通信領域，長周期光纖光柵可用於製作摻餌光纖放大器、增益平坦器、模式轉換器、帶阻濾波器等器件。
切趾光纖光柵
對於一定長度的均勻光纖Bragg光柵，其反射譜中主峰的兩側伴隨有一系列的側峰，一般稱這些側峰為光柵的邊模。如將光柵套用於一些對邊模的抑制比要求較高的器件如密集波分復用器，這些側峰的存在是一個不良的因素，它嚴重影響器件的信道隔離度。為減小光柵邊模，人們提出了一種行之有效的辦法一切趾所謂切趾，就是用一些特定的函式對光纖光柵的折射率調製幅度進行調製。經切趾後的光纖光柵稱為切趾光纖光柵，它反射譜中的邊模明顯降低。
相移光纖光柵
相移光纖光柵是由多段m（M>2)具有不同長度的均勻光纖Bragg光柵以及連線這些光柵的M-1個連線區域組成.相移光纖光柵因為在其反射譜中存在一透射視窗可直接用作帶通濾波器。
取樣光纖光柵
取樣光纖光柵也稱超結構光纖光柵，它是由多段具有相同參數的光纖光柵以相同的間距級聯成。除了用作梳狀濾波器之外，取樣光纖光柵還可用wdm系統中的分插復用器件。與其他分插復用器件不同的是，取樣光纖光柵構成的分插器件
可同時分或插多路信道間隔相同的信號。
chirped光纖光柵
所謂chirped光纖光柵，是指光纖的纖芯折射率變化幅度或折射率變化的周期沿光纖軸向逐漸變大(小)形成的一種光纖光柵。在chirped光纖光柵軸向不同位置可反射不同波長的入射光。所以chirped光纖光柵的特點是反射譜寬，在反射頻寬內具有漸變的群時延，群時延曲線的斜率即光纖光柵的色散值。所以，可以利用chirped光纖光柵作為色散補償器。
製作方法
製備
採用適當的光源和光纖增敏技術，可以在幾乎所有種類的光纖上不同程度的寫入光柵。所謂光纖中的光折變是指雷射通過光敏光纖時，光纖的折射率將隨光強的空間分布發生相應的變化，如這種折射率變化呈現周期性分布，並被保存下來，就成為光纖光柵。 光纖中的折射率改變數與許多參數有關，如照射波長、光纖類型、摻雜水平等。如果不進行其它處理，直接用紫外光照射光纖，折射率增加僅為（10的負4次方）數量級便已經飽和，為了滿足高速通信的需要，提高光纖光敏性日益重要，光纖增敏方法主要有以下幾種：
1）摻入光敏性雜質，如：鍺、錫、硼等。
2）多種摻雜（主要是B/Ge共接）。
3）高壓低溫氫氣擴散處理。
4）劇火。
成柵光源
光纖的光致折射率變化的光敏性主要表現在244nm紫外光的錯吸收峰附近，因此除駐波法用488nm可見光外，成柵光源都是紫外光。大部分成柵方法是利用雷射束的空間干涉條紋，所以成柵光源的空間相干性特別重要。主要的成柵光源有準分子雷射器、窄線寬準分子雷射器、倍頻Ar 離子雷射器、倍頻染料雷射器、倍頻OPO雷射器等，根據實驗結果，窄線寬準分子雷射器是目前用來製作光纖光柵最為適宜的光源。它可同時提供193nm和 244nm兩種有效的寫入波長並有很高的單脈衝能量，可在光敏性較弱的光纖上寫人光柵並實現光纖光柵線上製作。
成柵方法
光纖光柵製作方法中的駐波法及光纖表面損傷刻蝕法，成柵條件苛刻，成品率低，使用受到限制。主要的成柵有下列幾種。
1）短周期光纖光柵的製作
a）內部寫入法 內部寫入法又稱駐波法。將波長488nm的基模氛離子雷射從一個端面耦合到鍺摻雜光纖中，經過光纖另一端面反射鏡的反射，使光纖中的入射和反射雷射相干涉形成駐波。由於纖芯材料具有光敏性，其折射率發生相應的周期變化，於是形成了與干涉周期一樣的立體折射率光柵，它起到了Bragg反射器的作用。已測得其反射率可達90%以上，反射頻寬小於200MHZ。此方法是早期使用的，由於實驗要求在特製鍺摻雜光纖中進行，要求鍺含量很高，芯徑很小，並且上述方法只能夠製作布拉格波長與寫入波長相同的光纖光柵，因此，這種光柵幾乎無法獲得任何有價值的套用，很少被採用。用準分子雷射干涉的方法，Meltz等人首次製作了橫向側面曝光的光纖光柵。用兩束相干紫外光束在接錯光纖的側面相干，形成干涉圖，利用光纖材料的光敏性形成光纖光柵。柵距周期由 ∧=λuv/（2sinθ）給出。可見，通過改變人射光波長或兩相干光束之間的夾角，可以改變光柵常數，獲得適宜的光纖光柵。但是要得到高反射率的光柵，則對所用光源及周圍環境有較高的要求。這種光柵製造方法採用多脈衝曝光技術，光柵性質可以精確控制，但是容易受機械震動或溫度漂移的影響，並且不易製作具有複雜截面的光纖光柵，這種方法使用不多。
b）光纖光柵的單脈衝寫入 由於準分子雷射具有很高的單脈衝能量，聚焦後每次脈衝可達J·cm－2，又發展了用單個雷射脈衝在光纖上形成高反射率光柵。英國南安普敦大學的 Archambanlt等人對此方法進行了研究，他們認為這一過程與二階和雙光子吸收有關。由於光柵成柵時間短，因此環境因素對成柵的影響降到了最低限度。此外，此法可以在光纖技制過程中實現，接著進行塗復，從而避免了光纖受到額外的損傷，保證了光柵的良好強度和完整性。這種成柵方法對光源的要求不高，特別適用於光纖光柵的低成本、大批量生產。
相位掩模法c）相位掩膜法 將用電子束曝光刻好的圖形掩膜置於探光纖上，相位掩膜具有壓制零級，增強一級衍射的功能。紫外光經過掩膜相位調製後衍射到光纖上形成干涉條紋，寫入周期為掩膜周期一半的Bragg光柵。這種成柵方法不依賴於人射光波長，只與相位光柵的周期有關，因此，對光源的相干性要求不高，簡化了光纖光柵
的製造系統。這種方法的缺點是製作掩膜複雜，為使KrF準分子雷射光束相位以知間。隔進行調製，掩膜版一維表面間隙結構的振幅周期被選為 4π（nilica－1）/（A·λKrF）=π，這裡A是表面間隙結構的振幅。這樣得到的相位掩膜版可使準分子雷射光束通過掩膜後，零級光束小子衍射光的5%，人射光束轉向+1和-1級衍射，每級衍射光光強的典型值比總衍射光的35%還多。用低相干光源和相位掩膜版來製作光纖光柵的這種方法非常重要，並且相位掩膜與掃描曝光技術相結合還可以實現光柵耦合截面的控制，來製作特殊結構的光柵。該方法大大簡化了光纖光柵的製作過程，是寫入光柵極有前途的一種方法。
2）長周期光纖光柵的製作
a）掩膜法 掩膜法是目前製做長周期光纖光柵最常用的一種方法。實驗中採用的光纖為光敏光纖，PC為偏振控制器，AM為振幅掩膜，雷射器照射數min後，可製成周期 60μm～1mm範圍內變化的光柵，這種方法對紫外光的相干性沒有要求。
b）逐點寫人法 此方法是利用精密機構控制光纖運動位移，每隔一個周期曝光一次，通過控制光纖移動速度可寫入任意周期的光柵。這種方法在原理上具有最大的靈活性，對光柵的耦合截面可以任意進行設計製作。原則上，利用此方法可以製作出任意長度的光柵，也可以製作出極短的高反射率光纖光柵，但是寫人光束必須聚焦到很密集的一點，因此這一技術主要適用於長周期光柵的寫入。它的缺點是需要複雜的聚焦光學系統和精確的位移移動技術。由於各種精密移動平台的研製，這種長周期光纖光柵寫入方法正在越來越多的被採用。
套用範圍
光纖光柵在光纖通信系統中的套用 光纖光柵作為一種新型光器件，主要用於光纖通信、光纖感測和光信息處理。在光纖通信中實現許多特殊功能，套用廣泛，可構成的有源和無源光纖器件分別是：
有源器件：光纖雷射器（光柵窄帶反射器用於DFB等結構，波長可調諧等）；半導體雷射器（光纖光柵作為反饋外腔及用於穩定980nm泵浦光源）；EDFA光纖放大器（光纖光柵實現增益平坦和殘餘泵浦光反射）；Ramam光纖放大器（布喇格光柵諧振腔）；
無源器件：濾波器（窄帶、寬頻及帶阻；反射式和透射式）；WDM波分復用器（波導光柵陣列、光柵/濾波組合）；OADM上下路分插復用器（光柵選路）；色散補償器（線性啁啾光纖光柵實現單通道補償，抽樣光纖光柵實現WDM系統中多通道補償）；波長變換器 OTDM延時器 OCDMA編碼器 光纖光柵編碼器。
感測器中
光纖光柵自問世以來，已廣泛套用於光纖感測領域。由於光纖光柵感測器具有抗電磁干擾、抗腐蝕、電絕緣、高靈敏度和低成本以及和普通光纖的良好的兼容性等優點，所以越來越受關注。由於光纖光柵的諧振波長對應力應變和溫度的變化敏感，所以主要用於溫度和應力應變的測量。這種感測器是通過外界參量(溫度或應力應變)對Bragg
光纖光柵的中心波長調製來獲得感測信息的。因此，感測器靈敏度高，抗干擾能力強，對光源能量和穩定性要求低，適合作精密、精確測量。 光纖光柵感測器現已占以光纖為主的材料的44.2 %。光纖光柵感測器已被用於各個方面，例如高速公路、橋樑、大壩、礦山、機場、船舶、地球技術、鐵路、油或氣庫的監測。感測器的一個發展方向就是多點、分散式感測器，它們主要是利用WDM, TDM, SDM, CDMA的組合。
濾波器中
光纖濾波器是光纖通信中的一個重要的無源器件，光纖光柵的出現真正實現了全光纖型濾波器。光纖光柵濾波器成本低、與光纖兼容、易於集成等優點是光纖通信系統中理想的器件。隨著光纖光柵製作技術的成熟和各種波長調節手段的豐富，可以實現從1520~1560nm全波段單通道和多通道的寬頻、高反射率的帶阻濾波器和窄帶、低損耗的帶通濾波器，另外套用於增益平坦的光纖光柵濾波器得到了人們的廣泛的關注.除此之外光纖光柵還用於sdh系統的色散補償以及wdm系統的分插復用。
色散補償
光纖光柵色散補償對於普通單模G.652光纖,在1550nm處色散值為正,光脈衝在其中傳輸時，短波長的光（“蘭光”）較長波長的光（“紅光”）傳播得快.這樣經過一定距離得傳輸後，脈衝就被展寬了,形成光纖材料的色散.若使光柵周期大的一端在前，使長波長的光在光柵前端反射，而短波長的光在光柵末端反射，因此短波長的光比長波長的光
多走了2L距離(L為光柵長度)，這樣便在長、短波長光之間產生了時延差，從而形成了光柵的色散。 當光脈衝通過光柵後，短波長的光的時延比長波長的光的時延長，正好起到了色散均衡作用，從而實現了色散補償。
研製成功
1978年，加拿大通信研究中心的K．O．Hill及其合作者首次從摻鍺光纖中觀察到了光子誘導光柵。Hill的早期光纖是採用488nm可見光波長的氬離子雷射器，通過增加或延長注入光纖芯中的光輻照時間而在纖芯中形成了光柵。後來Meltz等人利用高強度紫外光源所形成的干涉條紋對光纖進行側面橫向曝光在該光纖芯中產生折射率調製或相位光柵。1989年，第一支布拉格諾振波長位於通信波段的光纖光柵研製成功。
