簡介
![6](/img/6/f3c/n5GcuM3XyITM2kTOyAjN5gDN5ITM1QDM2IDMxADMwAzMxAzLwYzLzQzLt92YucmbvRWdo5Cd0FmLzE2LvoDc0RHa.jpg)
“PlasmaScience&Technology”(電漿科學和技術)是中國科學院電漿物理研究所主辦的英文版學術期刊。其宗旨是向國內外報導我國電漿科學界和國外科學家在高溫電漿、低溫電漿、天體空間電漿、放電電漿和雷射電漿等各個領域在基礎研究、實驗探索、裝置建設和套用開發中所取得的具有新意的學術成果或階段性成果,並刊登反映這些學科國際、國內發展新方向、新動態的綜述,以及與電漿有關的交叉學科和套用方面的最新成就等。
資料庫收錄
本刊已加入中國學術期刊(光碟版)和中國期刊網、在“萬方數據——數位化期刊群”全文上網,並已被《中國核心期刊(遴選)資料庫》、中國科學引文資料庫(CSCD)、中國科技論文與引文資料庫(CSTPCD)、國際原子能機構的《國際核信息系統資料庫》(INIS)和美國化學文摘(CA)收錄。
主要版塊欄目
專題論述
理論研究
模擬計算
裝置設計
工藝裝備
實驗結果
技術套用
科技動態
綜合評論