內容簡介
《電漿放電原理與材料處理》全面深入地介紹電漿物理和化學的基本原理,以及工業電漿材料處理的原理,並套用基本理論分析各種常見電漿源的放電狀態。書中還介紹半導體材料的刻蝕、薄膜沉積,離子注入等低溫電漿在材料處理方面的套用,反映本領域的最新研究進展。《電漿放電原理與材料處理》共18章,內容包括電漿的基礎知識、電漿放電過程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放電、波加熱的氣體放電、直流放電、刻蝕、沉積與注入、塵埃電漿,以及氣體放電的動理論等。
作者簡介
作者:(美)邁克·A.力伯曼(Michael A.Lieberman) 阿倫·J.里登伯格 譯者:蒲以康 等
麥可·A·力伯曼,博士,加利福尼亞大學伯克利分校電子工程研究生院教授,曾發表170多篇有關電漿、電漿材料處理和非線性動力學方面的研究論文,而且同里登伯格教授合著有Regular and Stochastic Motion和Regular and Chaotic Dynamics(第二版)。
圖書目錄
第1章 概述
第2章 電漿的基本方程和平衡態性質
第3章 原子碰撞
第4章 電漿動力學
第5章 擴散和輸運
第6章 直流鞘層
第7章 化學反應和平衡
第8章 分子磁撞
第9章 化學動力學與表面過程
第10章 放電過程中的粒子平衡和能量平衡
第11章容性放電
第12章 感性放電
第13章 波加熱的氣體放電
第14章 直流放電
第15章 刻蝕
第16章 沉積與注入
第17章 塵埃等離子
第18章 氣體放電的動理論
附錄A 碰撞動力學
附錄B 碰撞積分
附錄C 變遷移率模型中的擴散方程的解
參考文獻