軟微影技術
軟微影技術(softlithography)，又稱軟微影製程、可撓性納米轉印[1]、軟蝕刻技術或軟光刻技術，是一種用軟性高分子材質做成的可撓性刻印的模具，在模具上面塗布具有自我組合性能的單元分子(SAM，Self-AssemblyMonomer)後，像印章一樣，在鍍金的薄膜基板上微壓，把納米圖形模子上面凸出部分的自我組合性能的單元分子(SAM)像油墨一樣的印在金薄膜上[2]。
優點
軟微影技術具有一些獨特的優勢比其他形式的微影(光刻)技術（如光刻和電子束光刻）。它們包括以下內容：
1.更低的成本比傳統微影技術大量生產。
2.非常適合套用在生物技術。
3.非常適合套用在塑膠電子。
4.非常適合於超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。
5.不需要製作光罩，即可製造一個小的細節設計比一般微影實驗室設備的（30〜100納米）差不多[3]。
缺點
現在的積體電路包含了好幾層不同的材料，PDMS壓模的扭曲變形會導致複製圖案的小誤差，也使上下層做好的圖形排列得不整齊。即使是最為小的排列誤差或扭曲，都會損壞多層納米電子裝置。因此，軟蝕刻法不適合製造需要精準堆疊的多層結構。此缺點可藉熱壓成形式納米壓印或步進光感式納米壓印來改善之[4]。
