蝕刻

蝕刻：又稱為光化學蝕刻，是把材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術，可分為濕蝕刻（wet etching）和乾蝕刻（dry etching）兩種類型。

蝕刻工藝

曝光法：工程根據圖形開出備料尺寸-材料準備-材料清洗-烘乾→貼膜或塗布→烘乾→曝光→ 顯影→烘乾-蝕刻→脫膜→OK

網印法：開料→清洗板材(不鏽鋼其它金屬材料)→絲網印→蝕刻→脫膜→OK