1. 台灣高雄市人,畢業於清華大學核子工程系, 為人熱誠, 其間於美國
Tegal(2000-2001) ,台灣積體電路(TSMC)(2001), Lam Research(2002-2003) ,荷蘭ASML(2003-2006)服務於半導體事業部,也與台積電/聯電合作 浸泡式微影( immersion Lithography) technology技術, 目前服務於美商RohmHaas : 其專業著作:
1. the surface morphology study by X-ray reflectivity and AFM comparison ( Nono-science technology Journal. )2005
2. CMP technology journal publication, 2006