名詞介紹
聚焦深度是衡量曝光工藝視窗的重要參數,它標誌了曝光系統成像的質量和晶圓表面位置的關係。在聚焦深度範圍之內,曝光成像的質量是可以保證的。曝光時的聚焦深度必須要遠大於晶圓表面的不平整度,只有這樣才能保證光刻工藝的良率 。
描述方程式
如圖1所示,為簡化計算,只考慮來自掩膜版的第0級和第1級衍射光通過投影透鏡在晶圓上成像,聚焦深度定義為2PP,即為:
DOF=2PP=λ/2(NA)
其中,λ=曝光的波長,NA=光學系統的數值孔徑[1]
圖1 球形波面的光程計算(P0是波面的聚焦點,即R0P0=RP0)