納米濕敏防偽

專利申請日:2009年3月26日 授權公告日:2010年1月13日 二線防偽:

納米濕敏防偽專利

專 利 號:ZL 2009 20135869.1
專利申請日:2009年3月26日
授權公告日:2010年1月13日
發明人:杜振林 李魁山 張龍生
專利權人:深圳市華德防偽技術開發有限公司

納米濕敏防偽簡介

納米濕敏防偽是利用特殊的工藝以及設備生產的一種納米級微孔薄膜材料,微孔在表面按照一定的規律分布排列,孔道具有超強的親水性能,因此薄膜材料在遇到水等透明液體時,材料將立即變得透明。納米濕敏防偽技術就是基於這種防偽材料而誕生的一種新型防偽技術。製作納米濕敏防偽材料的原材料配方及生產設備十分的複雜、獨特,知識 產權受到保護,所以其仿製的難度和仿製的成本非常高昂。通過特殊的工藝將微孔膜和其他基材進行複合,再經過印刷、燙印、成型等工藝製作成複合客戶要求的濕敏防偽標識(納米濕敏防偽標識)。

納米濕敏防偽特點

【滴水顯真偽,水乾後復原,0.1秒內即刻辨真偽】
一線防偽:塗濕標識表面,立刻顯示出更多隱藏的信息即為真,絕大多數的商品具備此一種防偽性能就已經足夠了。
二線防偽: 塗濕標識表面,在紫外線照射下觀察,能夠清晰地觀察到發光的圖文信息即為真,適用於機密檔案、證件。同時可以結合其他的紙張防偽、油墨防偽等等。
三線防偽:塗濕標識表面,用放大鏡觀察,可見其獨特的紋路特徵,此鑑別適用於專家鑑定。

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