以前，說到進行納米級結構的加工，主要採用通過切削材料的方法，或者利用化學反應生成一定模式結構的方法。但在納米空間中製造出任意形狀的立體結構是相當困難的。近年來，人們研究出採用“離子束加工”的方法，可以自由地製造出納米級大小的立體結構，這已經成為一項引人注目的新技術。究竟採用什麼辦法，才能在幾十納米的精度內，製造出自由設計的複雜結構呢？這正是本文所要介紹的內容。
協力/松井真二
（日本兵庫縣立大學高度產業科學技術研究所教授）
Photographs by Shinji Matsui
(Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry University of Hyogo)
在一根頭髮絲上，製作出攀登架那樣的複雜結構—精細加工業的這種夢想，現在已經實現了。這主要得益於“離子束加工”方法的研究成果，使人們得以在納米尺度上製造出有複雜結構的產品。
現在，產業界採用的半導體精細加工技術，是在底板上進行平面布線，線寬局限於100納米（nm，1納米=1/10-9米）左右。而利用這種辦法，想要製造出立體式的結構，是相當困難的。採用一種稱為“雷射造型”的方法，即通過光波進行立體造型的辦法，其精度也被限制在微米（m m，1微米=1/10-6米）範圍內。與此相對，如果使用“離子束加工”方法，就能夠製造出由直徑為80納米的細棒組成的、長寬高各為3微米左右的攀登架那樣複雜的結構。而紅細胞的大小約為8.5微米左右，可見這樣的納米級攀登架結構，會有多么微小了。
