簡介
由德國Centrotherm thermal solutions生產的高溫爐Activator 150設計用於SiC或GaN器件注入後退火，獨特工藝爐管和加熱系統設計允許工藝溫度達到 1850 ℃. Centrotherm 新一代SiC工藝爐管的研發用以滿足新興的150 毫米 SiC工藝. Activator 150-5 是為研發工作而特製的, 而Activator 150-50 專為大批量生產而設計。通過碳化矽升華生長石墨層可以獲得高性能器件。該工藝也是Activator 150 在圓片區域石墨的生成尺寸可能達到直徑 150 毫米
性能和優勢
· 高活化效率 · 最小表面粗糙度
· 最大溫度可達 1850 ℃
· 占地少 [1.8 m2]
· 升溫速率可達 100 K/min
· 批處理包括 2″，3″, 100 mm, 150 mm
· 批處理數量達到 40 片矽片[2″], 50 片矽片 [150 mm]
· 真空度小於10-3 mbar [可選]
· 可並排安裝石墨烯生長
典型套用
· 注入後高溫退火
· [3C, 4H, 6H器件，感測器]
· GaN 退火· 大面積石墨烯形成
· SiC 表面製備[例如碳化]
