灰度掩模

灰度掩模是一種光掩模，與二元掩模不同之處在於：灰度掩模在掩模平面不同位置可以提供

變化的透過率，單一灰度掩模可以含有一組二元掩模的位相信息，在經過一次光刻過程和刻

蝕過程後得到所需要的衍射光學元件。這種方法成本低、周期短、方法簡便、無對準誤差等，

但加工精度有待於提高。灰度掩模根據製作設備及原理可分為直寫灰度掩模、模擬灰度掩模及

其他灰度掩模。