氧化技術原理
O3的E°為2.07V，是一種極強的氧化劑。能有效去除色、濁、嗅味，去除廢水中酚、氰、硫化物、農藥、石油類等污染物。O3氧化有2種方式，一種是由O3分子或單個O原子直接參與反應引起；另一種是由O3衰減產生的OH·自由基引起。OH·的E°為2.8V，僅次於F(2.87V)，是水中存在的最強氧化劑，幾乎無選擇性地和廢水中所有的污染物發生反應，將甘油、乙醇、乙酸等O3不能氧化分解的一些中間產物，徹底礦化為CO2和H2O。在UV的照射下，O3溶於水後，發生如下反應：
O3+H2O - O2+H2O2
H2O2+H2O- O2+2OH·，
O3與UV的協同作用產生了OH·,OH·還可誘發一系列的鏈反應，產生其他基態物質和自由基，強化了氧化作用，使污染物的降解變得快速而充分；單一的O3氧化反應則不產生上述這類物質，污染物的降解不完全。Jun．ichirohagshi等研究表明，使用紫外光照射後，O3的氧化能力增強了10倍以上。
內容簡介
內容簡介
在本書的編撰過程中，也注重了對新工藝、新藝術的介紹，緊隨當今水處理工程技術的發展潮流，並從實用的角度出發，對各種類型特點的水處理技術一一敘述；本書內容全面，條理清晰，理論與實踐結合緊密，是水處理工程技術領域一本難得的參考資料。
本書可作為高等學校環境工程、市政工程、環境科學等專業本科及研究生教材，也可供相關專業的工程技術人員、科研人員參考。
目錄
第1章 高級氧化技術概述
1.1 定義
1.2 羥基自由基與污染物的反應
1.3 羥基自由基反應影響因素
第2章 臭氧氧化
2.1 概述
2.2 臭氧反應機理
2.3 臭氧氧化在水處理中的套用
2.4 催化臭氧氧化
2.5 催化臭氧氧化
2.6 臭氧與其他處理工藝的組合
第3章 光催化氧化
3.1 半導體光催化的原理
3.2 半導體光催化劑固定化技術
3.3 半導體光催化劑的改性技術
