簡介
氧化鈰拋光粉是稀土拋光粉的重要組成部分，被廣泛用於玻璃拋光，具有切削力強、拋光時間短、使用壽命長、拋光精度高的優點。氧化鈰拋光粉根據氧化鈰的含量分為低鈰、中鈰、高鈰拋光粉，其切削力和使用壽命也由低到高。目前國內的氧化鈰生產廠家主要包括：永州皓志稀土材料有限公司生產的“丘特”系列拋光粉和廣州市新稀冶金化工有限公司生產的“SHSP”系列產品等其他公司。
氧化鈰拋光粉的劃分
根據其CeO2量的高低可將氧化鈰拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質優的高鈰拋光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一類是CeO2含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在50%左右，或者低於50%,其餘由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。
對於高鈰拋光粉來講，氧化鈰的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環拋光時（石英、光學鏡頭等），以使用高品位的鈰拋光粉為宜。低鈰拋光粉一般含有50%左右的CeO2,其餘50%為La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等鹼性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等鹼性氟化物，此類拋光粉特點是成本低及初始拋光能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用於平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高鈰拋光粉低。
氧化鈰拋光粉的生產原料
目前，我國生產的氧化鈰拋光粉的原料有下列幾種：
（1）氧化鈰（CeO2），由混合稀土鹽類經分離後所得（w（CeO2）=99%）；
氧化鈰拋光粉（2）混合稀土氫氧化物（RE（OH）3），為稀土精礦（w（REO）≥50%）化學處理後的中間原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；
（3）混合氯化稀土（RECl3），從混合氯化稀土中萃取分離得到的少銪氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；
（4）高品位稀土精礦（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有內蒙古包頭混合型稀土精礦，山東微山和四川冕寧的氟碳鈰礦精礦。
以上原料中除第1種外，第2,3,4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國具有豐富的鈰資源，據測算，其工業儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今後我國持續發展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優勢，並可促進我國稀土工業繼續高速發展。
氧化鈰拋光粉的生產工藝
1 高鈰系稀土拋光粉的生產
以稀土混合物分離後的氧化鈰為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘乾→高級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備有：煅燒爐，水淬槽，分級器，過濾機，烘乾箱。
主要指標：產品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產品適用於高速拋光。這種高鈰拋光粉最早代替了古典拋光的氧化鐵粉（紅粉）。
2 中鈰系稀土拋光粉的製備
用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉澱劑）使轉化成w（CeO2）=80%~85%的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉澱→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級鈰系稀土拋光粉產品。主要設備：氧化槽，優溶槽，酸溶槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。
主要指標：產品中w（REO）=90%,w（CeO2）=80%~85%;稀土回收率約95%;平均粒度0.4μm~1.3μm.該產品適用於高速拋光，比高級鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。
3 低鈰系稀土拋光粉的製備
以少銪氯化稀土（w（REO）≥45%,w（CeO2）≥48%）為原料，以合成中間體（沉澱劑）進行復鹽沉澱等處理，可製備低級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為：
原料→溶解→復鹽沉澱→過濾洗滌→高溫煅燒→粉碎→細磨篩分→低級鈰系稀土拋光粉產品。
主要設備：溶解槽，沉澱槽，過濾機，煅燒爐，粉碎機，細磨篩分機。
主要指標：產品中w（REO）=85%~90%,w（CeO2）=48%~50%;稀土回收率約95%;平均粒徑0.5μm~1.5μm（或粒度320目~400目）。該產品適合於光學玻璃等的高速拋光之用。
