氧化鈰拋光液

軟硬度適中、不劃傷被拋物面。

懸浮性好，不易沉澱，使用方便。

分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。

產品特徵：
廣州新稀SHNP系列納米氧化鈰拋光質量穩定，粒度可控，顆粒度分布集中，並具有以下特點：
軟硬度適中、不劃傷被拋物面。
懸浮性好，不易沉澱，使用方便。
分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。
適用領域：
適用於DSTI-CMP、積體電路光掩模、高精密光學儀器、光學鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連線器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。
技術指標：
型號 粒度(D：50，μm) 濃度（wt％） PH 適 用
SHNP-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP
SHNP-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP
SHNP-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNP-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNP-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNP-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNP-12 1.1-1.2 20-40 7-9 多芯光纖連線器等
SHNP-15 1.3-1.5 20-40 7-9 多芯光纖連線器等
備註：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。
注意事項：
1．以防少許沉澱，建議使用前先搖勻。
2．使用時，以不同濃度並據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調製不同濃度。
儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。
包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。