產品特徵：
SHNF系列納米鈰基複合拋光液是在納米氧化鈰的基礎上複合納米矽材料，既能夠保證達到或超過二氧化矽所達到的細的表面光潔度，也保證能夠達到氧化鈰拋光劑達到的拋光速度，形成一種獨特的拋光效果，拋光液質量穩定，粒度可控，顆粒度分布集中，並具有以下特點：
1、軟硬度適中、不劃傷被拋物面。
2、懸浮性好，不易沉澱，使用方便。
3、分散性好、乳液均一，極大提高了拋光效率和精度。
適用領域：
1、適用於DSTI-CMP、積體電路光掩模、高精密光學儀器、光學鏡頭、液晶顯示屏、多芯光纖連線器、微晶玻璃基板、晶體表面等方面的精密拋光。
2、半導體材料、玻璃材料的拋光，尤其是需要拋光到極細的表面光潔度要求的，
技術指標：
型號 粒度(D：50，μm) 濃度（wt％） PH 適 用
SHNF-08 0.05-0.09 20-40 7-9 DSTI-CMP
SHNF-2 0.1-0.2 20-40 7-9 DSTI-CMP
SHNF-4 0.3-0.4 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNF-6 0.5-0.6 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNF-8 0.7-0.8 20-40 7-9 高精密光學儀器等
SHNF-10 0.9-1.0 20-40 7-9 高精密光學儀器等
備註：以上也可根據用戶需要不同濃度和不同粒度而調整。
注意事項：
1．以防少許沉澱，建議使用前先搖勻。
2．使用時，以不同濃度並據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋，調製不同濃度。
儲 存：本品需在0℃以上儲存，防止結塊，在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。
包 裝：1 L/瓶、5 L/瓶、20 L/瓶，或據客戶要求。
