束源

束源所屬現代詞，指的是產生分子束的裝置。

beam source
產生分子束的裝置。
可分為隙流束源和超聲分子束源。
隙流束源(effusive beam source)是採用加熱的方法使分子(如鈉)蒸發，從狹縫中射出，經一準直孔把發散的分子擋掉，可得一束較窄而直的分子束射向反應室。束源出口小孔的尺寸要小於束源內分子熱運動的平均自由程，束源內分子速度是按玻爾茲曼分布，分子速度分布相對較寬，發散角大，因而束強較小。隙流束源又稱熱束源、擴散束源、爐束源等。
超聲分子束源(supersonic molecular beam)氣體分子從噴嘴射出，經出口孔、準直器進入真空室。其特點是束源強度大，沿軸線方向流動使束的發散性得到抑制；由於向真空絕熱膨脹，溫度可降低到小於20K；速度分布窄。由於馬赫數M(=束流速度/聲速)可達幾十(超音速)，故又稱超聲分子速。
分子束的強度即束強(beam intensity)，是單位時間通過與入射束運動方向相垂直的單位面積的粒子數。
束流(beam flux)是單位時間內射到檢測器上的粒子數，也稱通量。