簡介
導電薄膜有多種定義,有指“一種能導電的薄膜,能實現一些特定的電子功能”,還有指“鍵盤等輸入器件的‘多層’薄膜,也有為單層的”。
分類
半導電薄膜半導電薄膜只有半絕緣多晶矽薄膜。
半導體薄膜主要有外延生長的Si單晶薄膜和CVD生長的摻雜多晶矽薄膜、半絕緣多晶矽薄膜。絕緣體薄膜主要有氧化矽薄膜、氮化矽薄膜等。金屬薄膜主要有Al、Au、NiCr等的薄膜。工藝中用到的薄膜技術光刻膠薄膜。導電薄膜與薄膜鍵盤製作電路的基材應採用聚酯(聚鄰苯二甲酸乙二醇酯)薄膜(Potyester簡稱PET)。它具有良好的絕緣性和耐熱性,具有較高的機械強度、透明性和氣密性,特別具有抗折性和高彈性,是製作薄膜鍵盤電路的理想材料。
材料的種類
薄膜鍵盤、面板的材質,除要求具有平整性和印刷適應性外,更主要的是要具有可撓性和高彈性的特點。
聚氯乙烯PVC℃.175~0.5/光面\常溫下對酸、鹼和鹽類穩定。耐磨性 好,耐燃自熄,消聲消震,電絕緣性好。熱穩定性較差。低廉普通標牌、面板
聚酯(PET)\-30~120℃.1~0.2光面耐藥品性良好,不溶於一般有機溶劑,不耐鹼。具有優良的機械性能、電性能、剛性、硬度和熱塑性塑膠中最大的強韌性,吸水性低,耐磨損、耐摩擦性優良,尺寸穩定性高。拉伸強度能與鋁膜媲美,大大高於PC、PVC。低廉因表面難以加工成亞光型,故有紋理PET較貴 是製作薄膜鍵盤電路最理想的基材。其中有紋理PET適合對表面要求較高或具有液晶顯示窗的產品。
材料的厚度
塑膠基材厚度在0.25mm及以下稱為薄膜,主要用作薄膜鍵盤的面板層,其背面印有各種指示性的圖案、文字來表示相應開關鍵位的操作區域,在厚度選擇上應視面板及按鍵的大小而定,材料厚,觸動力加大,反應遲鈍;材料過薄,觸動時手感差,回彈不明顯。厚度在0.25mm以上稱為板材,不適合立體鍵成型,可用作無按鍵操作區域的指示性的標牌面板,也可作為薄膜鍵盤的襯板以提高其硬度
導電薄膜的製備技術
以下是透明導電薄膜的製備技術 ,這些技術也可以用於製備抗靜電薄膜、防鏽薄膜、熱收縮薄膜、易開封薄膜等等。
磁控濺射磁控濺射是為了在低氣壓下進行高速濺射
,必須有效地提高氣體的離化率。通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高電漿密度以增加濺射率的方法。溶膠-凝膠溶膠凝膠法就是用含高化學活性組分的化合物作前驅體,在液相下將這些原料均勻混合,並進行水解、縮合化學反應,在溶液中形成穩定的透明溶膠體系,溶膠經陳化膠粒間緩慢聚合,形成三維空間網路結構的凝膠,凝膠網路間充滿了失去流動性的溶劑,形成凝膠。凝膠經過乾燥、燒結固化製備出分子乃至納米亞結構的材料。
脈衝雷射沉積脈衝雷射沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈衝雷射燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用雷射對物體進行轟擊,然後將轟擊出來的物質沉澱在不同的襯底上,得到沉澱或者薄膜的一種手段。
真空蒸鍍在真空環境中,將材料加熱並鍍到基片上稱為真空蒸鍍,或叫真空鍍膜。
化學氣相沉積化學氣相沉積(Chemical vapor deposition,簡稱CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應,生成固態物質沉積在加熱的固態基體表面,進而製得固體材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的氣態傳質過程。與之相對的是物理氣相沉積(PVD)。