半導體材料國家工程研究中心

1.超大規模積體電路用直拉單晶及拋光片的生產線; 3.光電子器件用Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體單晶及晶片的生產線。 2、φ3"、φ4"區熔矽單晶及晶片

中心簡介

北京有色研究總院1957年開始矽材料的研究。1958年10月成立了國內第一個矽材料研究室,系統地開展了矽多晶、單晶及其性能測試的研究工作。1965年利用自己的成套技術設計建成了我國第一個矽材料廠————四川峨眉半導體材料廠。後又參與從日本引進全套矽廠的籌備工作,於1966年建立洛陽單晶矽廠。
1991年11月成立了半導體材料國家工程研究中心,中心有高級研究員48名,固定資產3億元人民幣。中心在半導體材料單晶生長技術、半導體材料晶片加工技術、半導體材料缺陷的形成機理與消除措施領域開展了深入的研究。並在此基礎上取得了很多開創性的研究成果,在國內處於領先地位。
中心具有單晶生長、切片、磨片、腐蝕、拋光、清洗及檢測工藝;具有高精度的晶體生長、切、磨、拋設備和超淨環境;具有整套置於超淨環境中的測試、清洗、包裝設備;具有相應的純水、氣體和化學試劑等輔助條件和設施。

生產線

1.超大規模積體電路用直拉單晶及拋光片的生產線;
2.功率器件用區熔矽單晶及晶片生產線;
3.光電子器件用Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體單晶及晶片的生產線。

主要產品

1、φ3" -φ8" 直拉矽單晶及拋光片;
2、φ3"、φ4"區熔矽單晶及晶片
3、φ2"、φ3" Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體(直拉及水平砷化鎵、磷化鎵、銻化鎵、磷化銦)單晶及晶片。

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