公司對外提供的MEMS工藝服務包括:單面光刻/雙面光刻,矽-玻璃陽極鍵合,KOH/TMAH濕法腐蝕,乾/濕法氧化,多晶矽/氮化矽/二氧化矽低壓化學氣相沉積(LPCVD),多晶矽/氮化矽/二氧化矽反應離子刻蝕(RIE),矽深槽刻蝕(DRIE),化學機械拋光(CMP),快速熱退火(RTA),劃片,平行縫焊,台階測試,表面輪廓測試,雷射都卜勒測試,方塊電阻測試,IV測試,CV測試等。
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西安勵德微系統科技有限公司
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