剪下干涉儀

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剪下干涉儀

把通過被測件的波面用適當的光學系統分裂成兩個，並使兩波面彼此相互錯開（剪下），在兩波面重疊部分產生干涉圖形的儀器。
以常見的橫向剪下干涉儀為例。如圖所示,雷射束被聚光鏡1會聚到空間濾波器2上,濾波器置於被測物鏡3的焦點上,從物鏡出射的波面通過一稍有楔角的平板 4前後表面的反射，形成兩個彼此橫向錯開的波面，在兩波面重疊處形成干涉圖形，通過判讀條紋可評價被測物鏡的傳遞函式。

　除橫向剪下干涉儀外，如使兩波面沿徑向剪下即兩波面尺寸不同形成干涉的稱徑向剪下干涉儀；如使兩波面繞中心小量鏇轉而相互錯開形成干涉的稱鏇轉剪下干涉儀；如使兩波面反向錯開形成干涉的稱反向剪下干涉儀。
剪下干涉儀的優點是可省去標準的參考光學表面，結構簡單穩定。其弱點是剪下後形成的干涉圖形判讀比較困難。剪下干涉儀主要用作測定光學零件的面型、光學系統的像差和光學傳遞函式、流場的均勻性等。對雷射束的波面測量而言，剪下干涉儀是唯一可用的干涉形式。