組成部分
監控系統管路中介質流量大小，在管路因堵塞等因素照成的管內流量過低或者過高，可以及時向控制系統發出下線報警點（流量過低時）或者上線報警點（流量過高時）提供開關量信號，我們稱之為流量報警開關。
原理
冷卻水循環系統以水作為冷卻介質，並循環使用的一種冷卻水系統。主要由冷卻設備、水泵和管道組成。冷水流過需要降溫的生產設備（常稱換熱設備，如換熱器、冷凝器、反應器）後，溫度上升，如果即行排放，冷水只用一次（稱直流冷卻水系統），使升溫冷水流過冷卻設備則水溫回降，可用泵送回生產設備再次使用，冷水的用量大大降低，常可節約95%以上。冷卻水占工業用水量的70%左右，因此，冷卻水循環系統起了節約大量工業用水的作用。
從冷卻塔來的較低溫度的冷卻水，經冷卻泵加壓後送入冷水機組，帶走冷凝器的熱量後，溫度便升高了，然後被送到冷卻塔上進行噴淋，由於冷卻塔風扇的轉動，使冷卻水在噴淋下落過程中，不斷與室外空氣發生熱濕交換而冷卻，冷卻後的水落入冷卻塔積水盤中，然後再次被冷卻泵加壓後進入下一個循環。這就是它的流程，原理也很簡單，就是一個熱量交換的過程，這跟我們散熱器採暖一個道理。
分類
冷卻設備有敞開式和封閉式之分，因而冷卻水循環系統也分為敞開式和封閉式兩類。敞開式系統的設計和運行較為複雜。
敞開式
冷卻設備有冷卻池和冷卻塔兩類，都主要依靠水的蒸發降低水溫。再者，冷卻塔常用風機促進蒸發，冷卻水常被吹失。故敞開式冷卻水循環系統必須補給新鮮水。由於蒸發，循環水濃縮，濃縮過程將促進鹽分結垢(見沉積物控制)。補充水有稀釋作用，其流量常根據循環水濃度限值確定。通常補充水量超過蒸發與風吹的損失水量，因此必須排放一些循環水（稱排污水）以維持水量的平衡。冷卻水循環系統在敞開式系統中，因水流與大氣接觸，灰塵、微生物等進入循環水；此外，二氧化碳的逸散和換熱設備中物料的泄漏，也改變循環水的水質。為此，循環冷卻水常需處理，包括沉積物控制、腐蝕控制和微生物控制。處理方法的確定常與補給水的水量和水質相關，與生產設備的性能也有關。當採用多種藥劑時，要避免藥劑間可能存在的化學反應。
封閉式
封閉式冷卻水循環系統採用封閉式冷卻設備，循環水在管中流動，管外通常用風散熱。除換熱設備的物料泄漏外，沒有其他因素改變循環水的水質。為了防止在換熱設備中造成鹽垢，有時冷卻水需要軟化（見水的軟化）。為了防止換熱設備被腐蝕，常加緩蝕劑；採用高濃度、劇毒性緩蝕劑時要注意安全，檢修時排放的冷卻水應妥善處置。
優點
1、清除生物黏泥，保障冷卻塔正常運行；
2、徹底殺滅各種細菌，保證人的生命健康；
3、對人和環境沒有任何危害，對設備不產生腐蝕；
4、系統智慧型化運行，性能穩定，無需人員職守；
5、不需要停產刷洗，提高生產效率；
6、降低循環系統的能耗，降低企業運行成本；
7、溶液可完全降解，直接排放，不增加後續污水處理的費用。
工業套用
對半導體製造裝置發熱部分的冷卻：
單晶片洗淨轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對雷射裝置發熱部分的冷卻：
雷射加工、熔接機的發熱部分、雷射標誌裝置、發生裝置、二氧化碳雷射加工機等。
其他產業用機器發熱部分的冷卻：
等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗淨機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發熱部分的冷卻：
電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈衝條幅器的發熱部分、原子吸光光度計的光源等。
數控工具機、加工中心冷卻介質的降溫。
