光刻加工

在矽等基體材料上塗覆光致抗蝕劑，然後用極限解析度極高的能量束來通過掩模對光致抗蝕劑層進行曝光。經顯影后，在光致抗蝕劑層上獲得與掩模圖形相同的及微細的幾何圖形，在利用刻蝕等方法，在工件材料上製造出微型結構。