簡介
三工光電第五代薄膜太陽能電池刻膜機（G5）問世
雷射刻膜機該設備採用非接觸式的工作檯，不但解決了玻璃運行中的平穩性，還有效地解決了摩擦問題；使用世界一流的高性能雷射器，其性能指標包括脈衝的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到世界先進水平；另外在控制方面，採用全自動控制，包括自動進出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位，這在國際還是首創。當檢測到電池片缺陷時，可立即進行重刻和補刻；更可選擇全部檢測或抽檢。此外，“G5”屬於高標設備配置，國內的客戶基本要做的是“減法”而不是“加法”。當客戶不需要某些功能時，可根據要求去除,更可根據實際要求進行定製。
12月，江蘇強生公司斥資1000萬元訂製 “非晶矽薄膜太陽能電池成套生產設備”。 “這套國內領先、國際先進的設備，由一個一直靜默的企業製造出來，源於十餘年的積累與堅守。”三工董事長何成鵬自揭謎底。
近期，公司紫外雷射器研發項目正式啟動。紫外雷射器的研發標誌著三工光電雷射設備加工手段多樣化、市場套用廣泛化程度逐步加強。
SDF50B / SDF10D / SSF10B / SSF5D
設備性能
SDF(SSF)系列雷射刻膜機採用半導體泵浦雷射器(或全固態雷射器)，光點固定不動，工作檯帶動電池板兩維運動，或兩維分離，光點沿X軸運動，電池板沿Y軸運動，刻膜專用X-Y工作平台，伺服驅動、滾珠絲槓與導軌傳動，或X軸直線電機驅動，通過界面友好的專用控制軟體，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統，同時完成兩路或四路雷射同步輸出。
套用領域
非晶矽薄膜太陽電池的透明導電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶矽膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的雷射刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
主要技術參數
| 規格型號 | SDF50B | SDF10D | SSF10B | SSF5D |
| 雷射波長 | 1064nm | 532nm | 1064nm | 532nm |
| 雷射功率 | 50W | 10W | 10W | 5W |
| 雷射重複頻率 | 200Hz～50kHz | 1kHz～100kHz | ||
| 刻膜線寬 | 80μm | 50μm | ||
| 刻膜速度 | 200mm/s | 600mm/s | ||
| 刻膜精度 | ±10μm | ±10μm | ||
| 工作檯幅面 | 1250×640mm 或 1100×1400mm | 1250×640mm 或 1100×1400mm | ||
| 冷卻方式 | 循環水冷 | 風冷 |
