Wafer清洗機

Wafer清洗機

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技術參數

﹡電 源:AC 220V 50Hz
﹡工作環境:10~60℃40%~85%
﹡工作氣壓:0.5~0.7MPa
﹡主軸轉速:1000-2000rpm
﹡清洗時間:1-99sec
﹡乾燥時間:1-99sec
﹡機身尺寸:750mm(L)×650mm(W)×1250mm(H)
﹡重 量:180Kg

設備特點

﹡ 採用韓國先進的技術及清洗工藝,功能完善,自動化程度高,不需人工介入
Wafer清洗機

﹡ 配有油水分離器,袋式過濾器,水處理工藝先進,排放量極低並完全達到排放標準,且配有良好的除霧裝置,杜絕水霧產生。
﹡ 完善的給液系統,清洗液液位自動定量補液。
﹡ 出入料自動門智慧型控制。
﹡ 設有恆溫及加熱乾燥系統。
﹡ 各功能過載保護聲光警示功能。
﹡ 二十四小時智慧型化記憶控制,可對產品進行計數。

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