定義
LPP（laser-produced plasma）光源，全稱為雷射電漿光源，一般特指液體微滴噴射靶雷射電漿光源，是一種具有較高的軟X射線轉換效率且能夠長期連續運行的低碎屑光源。在極紫外光刻及輻射計量等領域有著重要套用價值和廣闊的發展前景。
原理
二氧化碳雷射脈衝經過放大、整形並對焦後，進入雷射激發等離子型真空室。雷射脈衝非常精準地擊射在由液態錫滴產生器所產生的液態錫滴上。具有高度激發物質的等離子前導波在二氧化碳雷射脈衝與液態錫滴作用的區域輻射出13.5nm光子超紫外線。專為13.5nm波長所設計的多層鍍膜反射鏡集光器收集背向輻射光源，並將光源導向位於光源輸出端的中間焦點位置，以做為掃描式光刻機曝光光源。
套用
雖然32nm，22/20nm節點上已經基於193nm液浸式光刻系統的雙重成像（double patterning）技術。但是走向更小節點時，EUV仍是業者關注的焦點。光源是光刻機上最重要的組成部分之一，光源的能量、穩定性、壽命等在某種程度上影響著光刻技術的發展，光源的質量更是舉足輕重的，所以很多大廠家都把EUV光刻的期望寄托在LPP光源上。
