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濺射工藝
濺射工藝是以一定能量的粒子(離子或中性原子、分子)轟擊固體表面,使固體近表面的原子或分子獲得足夠大的能量而最終逸出固體表面的工藝。濺射只能在一定的真空狀態下進行。
定義 原理 參考書目 -
真空鍍膜
以後由於提高了沉積速率而逐漸用於工業生產。常用的二極濺射設備如圖3[ 二極...真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和...主要用於蒸發Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻...
基本介紹 蒸發鍍膜 濺射鍍膜 離子鍍 參考書目 -
薄膜技術與薄膜材料
沉積10.4離子束混合第11章 濺射鍍膜11.1離子濺射11.2濺射鍍膜方式11.3磁控濺射源11.4濺射鍍膜的實例第12章 化學氣相沉積...242.1.3 吸附泵292.1.4 濺射離子泵302.1.5 升華泵322.1.6...
圖書信息1 圖書信息2 -
射頻濺射
散射少而較二極濺射為高;高頻電場可以經由其他阻抗形式耦合進入沉積室,而不必...交流濺射系統,由於常用的交流電源的頻率在射頻段。如13.56 MHz...輝光放電熄滅和濺射停止,所以直流濺射裝置不能用來濺射沉積絕緣介質薄膜...
簡介 射頻濺射的基本原理 特點 套用 -
薄膜技術與薄膜材料[2011年清華大學出版社出版圖書]
濺射鍍膜方式2428.2.1 直流二極濺射2468.2.2 三極和四極... 油封機械泵202.1.2 擴散泵242.1.3 吸附泵292.1.4 濺射... 高頻放電1074.7.1 高頻功率的輸入方法1074.7.2 離子捕集和電子...
圖書信息 內容簡介 目錄 -
輝光放電加熱
的陰極接靶電源負極,陽極接靶電源正極,進入正常濺射時,一定是在氣體放電伏...控靶工作電壓的增加,濺射電流也應同步緩慢上升 。 脈衝直流輝光放電...在單個脈衝的放電中的復現。脈衝直流靶電源在脈衝期間起輝濺射,在脈衝間隙自然...
簡介 分析 直流輝光放電 脈衝直流輝光放電 交流輝光放電 -
《粒子加速器技術》
電源技術、高頻技術、真空技術、束流測量技術、自動控制技術、電子直線加速器...) 參考文獻 第四章 加速器高頻技術 4.1 高頻系統在加速器中的作用... 4.2 高頻諧振器——從LC電路到高頻腔 4.2.1 RLC振盪電路...
內容簡介 目錄 前言 精彩書摘