概述
HM-NH1000脫硝氨逃逸線上監測系統，針對脫硝的工藝特點和監測難點而開發設計的一款全程超高溫抽取雷射檢測分析系統。適用於眾多工業領域的氣體排放監測和過程控制，如：燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、玻璃廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等等。
逃逸氨線上分析儀分散式檢測：在SCR裝置出口煙道上進行橫向分布多點巡視監測NH3分布濃度，可為分區調節噴氨量提供可靠的分區反饋信息，通過分散式逃逸氨檢測值可預知催化劑的壽命衰減狀況以及催化劑堵塞狀況。NH3的分散式監測可根據SCR裝置出口煙道的寬度確定3-4個檢測點。可選擇NOX和O2高溫檢測感測器，與NH3系統集成於一體，組成一套完整的脫硝裝置出口NH3、NOX和O2的分散式監測系統。為SCR裝置運行控制提供可靠的參考依據。
脫硝原理圖功能配置
■SCR和SNCR裝置逃逸氨線上分析的最佳選擇■可以實現SCR和SNCR裝置出入口煙道NH3的單點線上監測和濃度分布線上監測
■全程280度高溫抽取式測量，樣氣輸送過程中無冷凝和吸附
■大流量快速取樣分析回響速度快
■無零漂的紅外調製雷射分析技術，避免頻繁校準的煩惱
■系統中可內置高溫NOX和O2感測器，實現NH3、NOX和O2的全部高溫測量
■NOX的測量無需NO2轉化爐，測量值即為NO和NO2的總值NOX
產品特色
可實現實時抽取、實時測量、實時輸出（4-20mA和RS485）；可實現單點檢測和濃度場分布檢測；
可實現NH3、NOX和O2三組分同時高溫檢測；
取樣探頭無吹掃技術，系統結構更簡單；
大流量取樣分析快速回響，避免管道的吸附；
無冷凝器和隔膜泵等易損部件，系統中無任何運動部件，可靠性高、回響速度快；
整個氣體流路280℃高溫伴熱，避免銨鹽結晶堵塞過濾器和管道、以及污染分析儀氣體室，免維護周期長；
動態溫、壓補償，測量更準確；
採用高溫抽取法測量NH3，與原位法相比，具有不受煙道內粉塵、溫度、壓力波動的影響，可實現線上校準等優勢；
進口雷射NH3分析儀，無零飄技術，無氣體交叉干擾，測量精度更高。
系統技術參數列表
技術參數
測量原理：TDLAS測量組分：NH3（NOx和O2可選）
量程範圍：NH3：0-15ppm；NOx：0-1500ppm；O2：0-21%
解析度：NH3：0.1ppm；NOx：1ppm；O2：0.01%
測量精度：NH3：±0.1ppm；NOx：±5%；O2：±2%
回響時間：≤20S(取決於採樣距離)
伴熱溫度：280℃
預熱時間：≤30min
探頭工作溫度：0-500℃
探頭長度：1200、1500、1800、2000
防護等級：IP55
系統電源：AC220V50HZ±10%模擬量輸出：4-20mA隔離輸出，最大負載500Ω負載；（增加NOX和O2時有3組4-20mA輸出）
通訊接口：RS232（RS485可選）
繼電器輸出：2路（乾接點220V1A）
工作環境
探頭環境溫度：-20—85℃儀表環境溫度：-5—55℃
工作所需能源介質
電源：AC220V50HZ±10%5000W氣源：0.3-0.7MPa（淨化儀表壓空或氮氣）
