相關詞條
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靶材
鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材...
材質分類 發展 製作工藝 套用領域 -
鈦靶
黑色/紫色圓柱形純鉬（Mo）靶3N510.2黑色圓柱形鈦靶靶材的主要性能...表面工程用靶材（裝飾工具）多弧靶品 名純度密度鍍膜優勢色形狀常規尺寸套用行業鈦鋁（TiAl）合金靶2N8-4N3.6-4.2玫瑰金/咖啡色...
表面工程用靶材（裝飾工具）多弧靶 靶材的主要性能要求 -
平面靶材
高純鐵靶材Fe 高純鈦靶材Ti 高純鎳靶材Ni高純鎂靶材Mg高純鉻靶材...簡介平面靶材：planetarget濺射靶材根據形狀可分為平面靶材，多弧靶材，旋轉靶材。平面靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材，例如...
簡介 成分結構 生產工藝 套用領域 相關產業信息 -
磁控濺射靶材
1. 鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn 2.
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濺鍍靶材
對濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能雷射轟擊靶材，並使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，並且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。
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金屬靶材
金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
材料介紹 鎢鈦合金 W-Ti靶材 套用 發展前景 -
旋轉靶材
旋轉靶材（rotating target/rotary target）是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，裡面裝有靜止不動的磁體，以慢速轉動。其優點是利用率...
主要產品: 用途： 業內領軍企業： -
濺射靶材
濺射靶材的要求較傳統材料行業高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙...
基本信息 主要套用
