相關詞條
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低溫電漿[物態名詞]
氣體。產生方法輝光放電，電暈放電，介質阻擋放電，射頻放電，滑動電弧放電，射流放電，大氣壓輝光放電，次大氣壓輝光放電輝光放電(GlowDischarge)輝光放電屬於低氣壓放電(low pressure...
物理解釋 狀態解釋 產生方法 產生條件 套用 -
離子滲氮法
離子滲氮法(或輝光放電氮化）是由德國人B.Berghaus於1932年發明的。該法是在0.1～10Torr（Torr = 133.3 Pa）的含氮氣氛中...
定義 原理 設備 主要工藝參數 套用 -
磁控濺射法
磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁） 之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使氬氣發生電離。
優勢特點 反應類型 -
低溫電漿淨化有機廢氣技術
有機廢氣， 電子束淨化器、輝光放電電漿淨化器、介質阻擋放電電漿...253.6展望26參考文獻27第4章輝光放電電漿淨化器304.1輝光放電原理304.2輝光放電反應器類型32...
內容簡介 圖書目錄 -
電漿隱身技術
．而在機載條件下常用的方法主要是氣體放電法和塗抹放射性同位素兩種方法(二者均產生非均衡冷電漿)，其中常用的氣體放電法分為以下幾種：電漿放電(1) 大氣壓下的介質阻擋放電和輝光放電：大氣壓下利用介質阻擋放電和輝光...
概述 利用價值 研究進展 發展前景 局限性 -
離子濺射鍍膜法
離子濺射鍍膜法是離子濺射形成干涉膜是增進相間襯度顯示組織的新方法。
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現代原子發射光譜分析
，M）原子發射光譜分析、電漿質譜分析（ICPMS）、輝光放電（GD...水樣分析 3.6.2其它類樣品分析 參考文獻 第四章輝光放電原子發射光譜及質譜分析 4.1概述 4.2輝光放電裝置及基本原理...
現代原子發射光譜分析 簡介 目錄 -
釺焊法
釺焊屬於固相連線，他與熔焊方法不同，釺焊時母材不熔化，採用比母材熔化溫度低的釺料，加熱溫度採取低於母材固相線而高於釺料液相線的一種連線方法。
優缺點分析 分類 套用及特點 工藝方法 常用釺焊 -
原子發射光譜分析技術及套用
原子發射光譜分析、電感耦合電漿發射光譜分析、輝光放電發射光譜分析和...發射光譜和輝光放電發射光譜的儀器結構、分析技術及其套用，並分別列舉了這三種...2.6.3 輝光放電光譜儀參考文獻第3章 火花光源發射光譜分析3.1 概述...
內容簡介 目錄 -
灰質簇
aura輝光glow輝光glowlamp輝光燈glowdischarge輝光放電glow-dischargingtr ...recoverydiode恢復二極體restoringmethod恢復法...
