Ultra- high vacuum
真空空間可分為四種類型,近場真空、熱真空、低溫電漿真空和高能粒子真空。粒子在每一種真空中飛行的平均能量分別為≤5 eV、≤O.3 eV、≤100 eV和≤40 TeV。在真空室中製得的核聚變電漿,不屬於低溫電漿(≥10 keV)。表面科學家和表面分析儀器工程師們一直都在研究近場區域。在基體材料的處理方面,包括地球環境技術,人們主要研究的是熱真空。材料表面處理人員利用的是近場區域、熱真空和低溫常規電漿真空(不包括離子注入)的知識。超高真空、極高真空及其研發技術的歷史和現狀,在P.A.Radhead,J.P.Hobson和H.F.Dylla出版的特刊JVSTA V01.21,5號增刊文章中作了很好的論述。表面處理系統中的超高真空技術以研發技術為基礎,在工業套用上則多種多樣,考慮到經濟因素,實際套用中使用大量的特殊材料。在工業上,超高真空技術是超清潔技術(UCL)的一個分支,任何材料和處理過程都應該保持清潔。超高真空處理的第一步是表面除氣及測量。我們首先討論的是超高真空系統的分子動力學基礎。
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