簡介
賀洪波，男，1971年2月生，博士，研究員。1999年7月在中科院上海光機所光學工程專業獲工學博士學位，隨後一直在上海光機所從事光學薄膜和功能薄膜的設計、製備及測試技術研究，期間曾於2000年11月至2001年10月赴美國馬里蘭州Brimrose公司訪問工作一年，負責該公司光通信薄膜和全固態雷射器薄膜的研發以及鍍膜技術員的培訓。2004年10月起聘任為上海光機所研究員。 1、學科方向、意義以高功率雷射薄膜為主，同時關注現代雷射技術和光學系統對光學薄膜的發展需求，研究光學薄膜以及光電功能薄膜的理論設計、生長機理、物理氣相沉積（PVD）技術、性能測試分析以及套用技術推廣等。 高功率雷射薄膜的研究以高功率雷射裝置相關國家重大工程項目為套用背景，其研究進展和成果不僅對於這些雷射裝置的建設和運行有重大實用價值，而且在推動我國先進雷射薄膜沉積技術、高性能光學薄膜沉積工藝、光學薄膜測試分析以及光學薄膜相關的技術套用等方面的發展也有著重要的科學意義、學術價值和套用前景。在光學薄膜研究領域獲得的理論知識和實踐經驗，對於現代光學套用技術領域以及國際光學前沿領域，如微納結構控制、固體雷射、半導體照明、光顯示技術、光通信技術等，均有重要的促進作用。 2、現有的課題國家高技術863項目“基於新材料新工藝的高功率雷射薄膜研製”、國家自然科學基金項目“‘雕塑’薄膜的結構控制和光學性能研究”、國家自然科學基金項目“248nm雷射薄膜損傷機理研究”。 3、研究生培養情況已培養博士後1名、碩士生11名（其中5名碩博連讀後協助培養）、曾協助培養博士生多名現指導博士生3名、碩士生1名4、所獲得的成就曾主持完成上海市光科技行動專項課題“高靈敏度弱吸收測量儀的研製”、國家高技術863項目“強雷射與光電器件相互作用”和“大口徑雷射薄膜的雷射預處理技術研究”。 曾作為主要完成人之一獲得上海市科學技術進步二等獎、三等獎各一次。已在國內外核心刊物發表論文60餘篇，申請專利10餘項。 現擔任中國光學學會光學材料專業委員會秘書長。 5、研究方向光學工程（雷射薄膜、光電功能薄膜、薄膜性能測試技術） 材料學（新型光學薄膜材料、薄膜材料性能分析）
