計算機圖象綜合技術

簡單光反射模型第一節 局部光反射模型第一節 光線跟蹤顯示技術第一節

內容介紹

本書是獻給從事CAD/CAM的工程師的必讀系列書之一。
計算機圖象綜合技術作為計算機圖形學的一個分支,已成為一門獨立
的新學科,且已廣泛套用於機械、建築、化工、國防、教育、娛樂、廣告、藝術等
領域。本書是作者在多年教學的基礎上,參考了國內外最新資料,整理而成。
全書力求系統全面地介紹計算機圖象綜合的各種技術和最新成果。主要內
容有:三維物體的表示及其幾何變換,各種光照模型和光源模型,四大顯示
算法(深度快取算法、掃描線消隱算法、光線跟蹤算法和輻射度算法),陰影、
紋理和自然景物生成技術,抗走樣技術以及體繪製技術。
本書既可作為大專院校高年級學生和研究生的教材,又可作為各行業
CAD/CAM領域的技術人員和管理人員的參考書。

作品目錄

目 錄
出版說明
前言
第一章 基本知識
第一節 圖象綜合技術
第二節 真實感圖象
第三節 顏色空間
第四節 光柵顯示系統
第二章 三維物體的幾何表示方法
第一節 物體的定義與物體的幾何表示
第二節 邊界表示
第三節 特徵參數表示
第四節 曲面離散近似表示
第五節 物體構造表示
第六節 八叉樹表示
第三章 三維形體輸出過程
第一節 平面幾何投影變換
第二節 觀察空間的定義
第三節 空間轉換
第四節 三維裁剪
第四章 簡單光反射模型
第一節 基本光學原理
第二節 簡單光反射模型的導出
第三節 簡單光反射模型的實現
第四節 實例
第五章 增量式光反射模型
第一節 雙線性光強插值法
第二節 雙線性法向插值法
第三節 加速算法
第六章 局部光反射模型
第一節 局部光反射模型的理論基礎
第二節 局部光反射模型
第三節 局部光反射模型的實現
第七章 光源模型
第一節 概述
第二節 聚光燈和泛光燈的光源模型
第三節 用測角圖描述光源的光強分布
第四節 線光源的光強分布
第八章 消隱顯示技術
第一節 基本概念
第二節 深度快取算法
第三節 掃描線算法
第四節 多邊形區域排序算法
第五節 列表優先算法
第九章 陰影生成技術
第一節 概述
第二節 陰影掃描線算法
第三節 陰影多邊形算法
第四節 陰影空間算法
第五節 陰影深度快取算法
第六節 反走樣軟影生成算法
第十章 曲線和曲面的參數表示
第一節 參數表示
第二節 Bézier曲線和曲面
第三節 雙三次曲面的顯示
第四節 B樣條
第五節 插值
第六節 曲面擬合
第七節 表示法之間的轉換
第十一章 簡單光透射模型
第一節 早期對透明效果的模擬方法
第二節 Witted光透射模型
第三節 Hall光透射模型
第四節 透明物體的陰影計算
第十二章 光線跟蹤顯示技術
第一節 概述
第二節 基本光線跟蹤算法
第三節 光線與物體求交
第四節 光線跟蹤中的簡單陰影
第五節 光線跟蹤的加速技術
第六節 反向光線跟蹤
第七節 錐形光束跟蹤
第八節 分散式光線跟蹤
第十三章 輻射度方法
第一節 輻射度方程
第二節 提高求解的精度
第三節 逐步求精技術
第四節 形狀因子的計算
第五節 在輻射度方法中模擬鏡面反射
第十四章 抗走樣技術
第一節 採樣理論
第二節 超採樣
第三節 連續域上的濾波方法
第四節 隨機採樣
第五節 光線跟蹤與抗走樣
第十五章 體繪製技術
第一節 體繪製概述
第二節 早期的體可視化技術
第三節 等值面構造技術
第四節 用視線投射法進行體繪製
第五節 行進立方體算法的實現
第十六章 紋理與紋理映射
第一節 紋理的表示與映射
第二節 撞坑映射
第三節 紋理映射中的抗走樣技術
第四節 環境映射
第十七章 自然景物生成技術
第一節 粒子系統
第二節 分維幾何
參考文獻

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