薄膜電晶體(TFT)陣列製造技術

薄膜電晶體(TFT)陣列製造技術，高質量的平板顯示器的核心是薄膜電晶體（Thinfilmtransistor,TFT）矩陣的特性和製造技術。這本書主要介紹非晶矽（amorphoussilicon，a-Si）TFT陣列大規模生產的製造技術。

基本信息

• 名稱：《薄膜電晶體(TFT)陣列製造技術》
• 作者：谷至華
• 價格：45.00 元
• 語種：中文
• ISBN：9787309056556
• 出版社：復旦大學出版社
• 開本：16開
• 出版時間：2007年
• 裝幀：平裝
• 版次：1

內容提要

全書共13章，從TFT元件的結構及特點，到TFT檢查與修復。包括TFT陣列製作清洗工藝，成膜工藝，光刻工藝，不良解析和檢查修復。從TFT陣列大規模製造的角度，第一次比較全面的介紹了TFT-LCD生產線的TFT陣列製造工藝技術，工藝參數，生產工藝技術管理，工藝材料規格，設備特性，品質控制，產品技術解析。以工藝原理，設備參數控制，材料特性要求，生產工藝檔案要求等大規模生產技術要素為核心，比較完整的介紹了現代化信息製造業的工藝流程與工藝管理。

本書可作為平板顯示行業工程師，技術人員，管理人員的參考用書，也可供高等院校相關專業方向研究人員，研究生以及相關行業從業人員參考。

目錄

引言

第一章　TFTLCD生產線建設

第二章　TFT元件的結構及特點

第三章　TFT工藝概述

第四章TFT陣列製作清洗工藝

第五章　濺射成膜（金屬膜）

第六章　CVD成膜（非金屬膜）

第七章　曝光與顯影工藝技術

第八章　濕刻工藝技術

第九章　乾刻工藝技術

第十章　光刻膠剝離與退火

第十一章　缺陷解析技術

第十二章　TFT檢查與修復

第十三章　TFT製造工藝小結與技術展望

參考文獻