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光刻機
光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment Sys...
概要 主要廠商 品牌 分類 紫外光源 -
極紫外線光刻機
極紫外線光刻機是晶片生產工具，是生產大規模積體電路的核心設備，對晶片工藝有著決定性的影響。小於5納米的晶片晶圓，只能用EUV光刻機生產。 2018年4月...
背景 功能 價格 -
納米電子器件
納米電子器件指利用納米級加工和製備技術，如光刻、外延、微細加工、自組裝生長及分子合成技術等，設計製備而成的具有納米級尺度和特定功能的電子器件。
1背景介紹 2概述 3納米電子器件分類 4納米電子器件的製備技術 -
國家納米科學中心
國家納米科學中心（The National Center for Nanoscience and Technology），位於北京市海淀區，中國科學院與...
歷史沿革 科研條件 科研成就 人才培養 文化傳統 -
國家科學中心[中國國家納米科學中心]
國家納米科學中心（The National Center for Nanoscience and Technology），位於北京市海淀區，中國科學院與...
歷史沿革 科研條件 科研成就 人才培養 文化傳統 -
色散共焦觸感器
，SIM卡插槽和外殼貼合程度等。 光刻機行業中，高端設備需要大量位置定位。例如光刻機物鏡姿態定位，移動台定位，晶圓厚度檢測等，都可能用到共焦...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
共聚焦感測器
，SIM卡插槽和外殼貼合程度等。 光刻機行業中，高端設備需要大量位置定位。例如光刻機物鏡姿態定位，移動台定位，晶圓厚度檢測等，都可能用到共焦感測器...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
共焦感測器
測量原理共焦感測器是一種通過光學色散原理建立距離與波長間的對應關係，利用光譜儀解碼光譜信息，從而獲得位置信息的裝置，如圖 1 所...
測量原理 結構設計 測量技術發展歷史 信號數據處理 主要參數 -
色散共焦感測器
，SIM卡插槽和外殼貼合程度等。 光刻機行業中，高端設備需要大量位置定位。例如光刻機物鏡姿態定位，移動台定位，晶圓厚度檢測等，都可能用到共焦...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數 -
非接觸位移感測器
，SIM卡插槽和外殼貼合程度等。 光刻機行業中，高端設備需要大量位置定位。例如光刻機物鏡姿態定位，移動台定位，晶圓厚度檢測等，都可能用到共焦...
測量技術發展歷史 測量原理 結構設計 信號數據處理 主要參數
