等離子化學氣相沉積PlasnaH chemical }apar deposition;1'C;VTI化學氣相沉積} L`1'T3 )法是製備無機材料，尤其是無機薄膜和塗層的一種重要手段，用等離子輔助CVr}。可在較低的溫度下沉積，塗層均勻不剝落、
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化學氣相沉積
化學氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相澱積是近幾十年發展...
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化學氣相沉積法
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氣相沉積套用技術
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等離子加熱
利用工作氣體電離形成電漿的高溫和電漿中自由電子與正離子複合時釋放的能量進行的電加熱。工作氣體根據使用要求有氮、氫、氬，或氮和氬、氬和氫的混合氣體...
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等離子設備
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脈衝雷射沉積
脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一...
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微波化學
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