簡介
溶劑蒸發法是指將溶劑中的水蒸發逸出,使溶液處於過飽和狀態,從而使晶體生長有足夠驅動力的晶體生長法。主要裝置有自控加熱器,轉晶電機,冷凝回收溶劑裝置等。生長時可以保持恆溫,用控制蒸發量來控制溶液的過飽和度,得到的晶體成分均勻,生長過程穩定,利於摻雜晶體生長。但是排出腐蝕溶劑,蒸發速率難控制,出現局部高過飽和度使晶體交又生長 。
基本原理
基本原理是將作為浴劑的水不斷地蒸發移出,以保持溶液處於過飽和狀態,使晶體生長具有足夠的驅動力,並用控制蒸發量的名少來控制飽和度的大小主要裝置有自控加熱器、轉晶電機、冷凝回收溶劑裝置等 。
優缺點
優點是生長時可以保持恆溫,得到的晶體成分均勻,特別有利於摻雜晶體的生長。缺點是將大量腐蝕溶劑的蒸發速率較難控制,通常會在熔體表面發生成核,因為由於溶劑損失產生了局部的高過飽和度,並常出現晶體的互動生長。只有當結晶發生在坩堝底部時,才可能生長出質量非常好的晶體。蒸發法在工業生產中運用廣泛 。